Терешко Ирина Васильевна

Устройство для контроля интенсивности излучения плазмы тлеющего разряда

Загрузка...

Номер патента: U 10193

Опубликовано: 30.08.2014

Авторы: Терешко Ирина Васильевна, Редько Всеволод Петрович, Волченков Александр Владимирович, Логвин Владимир Александрович, Логвина Екатерина Владимировна

МПК: C23C 14/38

Метки: плазмы, излучения, контроля, тлеющего, разряда, интенсивности, устройство

Текст:

...а вокруг направляющих установлены фиксирующе-затеняющие упругие шторки. На внутренней стороне корпуса вне направляющих дополнительно установлены прижимы с возможностью быстрой установки и снятия по меньшей мере одного интерференционного фильтра. В процессе обработки изделий из металлов и сплавов в плазме тлеющего разряда для достижения оптимальных параметров плазмы и соответственно качества обработки необходимо контролировать степень...

Устройство для контроля электромагнитного излучения плазмы тлеющего разряда

Загрузка...

Номер патента: U 9963

Опубликовано: 28.02.2014

Авторы: Редько Всеволод Петрович, Логвина Екатерина Владимировна, Логвин Владимир Александрович, Волченков Александр Владимирович, Терешко Ирина Васильевна

МПК: C23C 14/38

Метки: контроля, электромагнитного, излучения, плазмы, тлеющего, разряда, устройство

Текст:

...корпус, который установлен снаружи вакуумной камеры около смотрового окна, при этом одна ось симметрии токопроводящего контура расположена в плоскости, параллельной плоскости смотрового окна, а вторая ось симметрии токопроводящего контура перпендикулярна ей. Дополнительно устройство снабжено по меньшей мере одним токопроводящим контуром, и токопроводящие контуры расположены с равным угловым шагом относительно оси симметрии...

Способ обработки поверхности изделий в вакууме в тлеющем разряде и устройство для его осуществления

Загрузка...

Номер патента: 17923

Опубликовано: 28.02.2014

Авторы: Терешко Ирина Васильевна, Чернов Анатолий Сергеевич, Логвина Екатерина Владимировна, Логвин Владимир Александрович, Редько Всеволод Петрович

МПК: C23C 14/38, C23C 14/48, C23C 8/00...

Метки: вакууме, обработки, устройство, осуществления, тлеющем, изделий, поверхности, способ, разряде

Текст:

...агрегат, вакуумную камеру с катодом и анодом, подключенными к источнику напряжения,согласно изобретению, содержит маски из диэлектрических материалов, установленные над изделиями и выполненные с возможностью отвода излучения от поверхностей, не требующих обработки, и концентрации на поверхностях, требующих более интенсивной обработки. Над изделиями установлены фокусаторы из диэлектрических материалов, выполненные с возможностью увеличения...

Сканирующий емкостной преобразователь

Загрузка...

Номер патента: U 9499

Опубликовано: 30.08.2013

Авторы: Хомченко Александр Васильевич, Терешко Валерий Михайлович, Терешко Ирина Васильевна, Горчаков Тимур Анатольевич, Сергеев Сергей Сергеевич, Редько Всеволод Петрович

МПК: G01R 27/26

Метки: преобразователь, сканирующий, емкостной

Текст:

...металлические электроды выполнены дугообразными на диэлектрической подложке, а диэлектрический сосуд имеет возможность вертикального перемещения. Так как с электрическими параметрами диэлектриков, в частности такими, как тангенс угла диэлектрических потерь, электрическая емкость и электропроводность, обусловленная токами смещения, коррелируют различные физико-механические, химические, биологические, структурные и другие свойства жидких...