Новицкий Николай Николаевич
Способ обработки поверхности оптического элемента на основе фторида кальция CaF2
Номер патента: 16781
Опубликовано: 28.02.2013
Авторы: Будько Тамара Олеговна, Стогний Александр Иванович, Шарко Сергей Александрович, Новицкий Николай Николаевич
МПК: C23C 14/46, G02B 1/10
Метки: оптического, фторида, кальция, обработки, способ, элемента, основе, поверхности
Текст:
...дефекты размером 200-300 нм являются ловушками и линзами для излучения, что заметно ухудшает оптические характеристики приборов, создаваемых на основе фторида кальция. Органические примеси скапливаются в трещинах,образующихся по границам монокристаллических блоков при механохимическом полировании (трещиноватый слой), а также в областях ростовых дефектов. Химические методы обработки не в состоянии удалить эти примеси. При наклонном падении...
Способ нанесения металлического покрытия на порошки алмаза
Номер патента: 16316
Опубликовано: 30.08.2012
Авторы: Стогний Александр Иванович, Будько Тамара Олеговна, Шарко Сергей Александрович, Новицкий Николай Николаевич
МПК: C01B 31/06, C23C 14/46, C23C 14/18...
Метки: нанесения, металлического, порошки, алмаза, способ, покрытия
Текст:
...заключается в том, что обработка алмаза в СВЧ плазме атомарного водорода приводит к удалению адсорбированного кислорода с поверхности алмаза и одновременном ее активации для нанесения слоя металлизации. Нанесенный наноразмерный слой титана не имеет внутренних напряжений, препятствует взаимодействию кислорода и непосредственному контакту кобальта с поверхностью алмаза. Это создает благоприятные условия для последующего нанесения на...
Способ получения пленок феррит-шпинели
Номер патента: 16206
Опубликовано: 30.08.2012
Авторы: Труханов Алексей Валентинович, Пашкевич Михаил Викторович, Новицкий Николай Николаевич, Стогний Александр Иванович
МПК: H01F 10/20, C23C 14/06, C23C 14/58...
Метки: способ, пленок, получения, феррит-шпинели
Текст:
...30-60 минут в среде кислорода. Сущность изобретения заключается в следующем полированные пластины кремния ориентации (100), диаметром 76 мм служили подложками и препарировались по стандартной методике. Составная мишень формировалась компактированнием керамических образцов (1-)24 заданного состава в виде полиэдров размерами (8055 мм). 2 16206 1 2012.08.30 Распыление мишени производилось в среде кислорода при температуре внутри камеры 905...
Способ изготовления прозрачного омического контакта к эпитаксиальному слою нитрида галлия p-GaN
Номер патента: 15439
Опубликовано: 28.02.2012
Авторы: Труханов Алексей Валентинович, Стогний Александр Иванович, Новицкий Николай Николаевич, Пашкевич Михаил Викторович
МПК: H01L 21/02, B82B 3/00, H01L 33/00...
Метки: нитрида, способ, омического, галлия, слою, изготовления, p-gan, прозрачного, контакта, эпитаксиальному
Текст:
..., причем сначала наносят первый слой омического контактатолщиной 3 нм с собственной проводимостью -типа, затем слой золота толщиной 4 нм, а потом на полученную двухслойную контактную структуру наносят второй слойтолщиной не менее 3 нм и в результате формируют контактную структуру ///-. Новым, по мнению авторов, является то, что перед нанесением первого слоятолщиной 3 нм на слой - наносят слой аморфного нитрида галлия толщиной не менее...
Ионный источник
Номер патента: 15032
Опубликовано: 30.10.2011
Авторы: Новицкий Николай Николаевич, Пашкевич Михаил Викторович, Стогний Александр Иванович, Труханов Алексей Валентинович
МПК: H01H 1/00, H01J 27/00, H01J 27/02...
Текст:
...и изолятор 10 между дополнительным электродом 7 и фланцем 9. Со стороны анода 1 полый катод 2 закрыт фланцем 9 с осевым контрагирующим отверстием 11, в которое введен анод 1, а в зазор(на фигурах не показано) контрагирующего отверстия 11, образованного фланцем полого катода и анодом, помещен керамический изолятор 12. Внутри полого катода 2 расположена осесимметричная внутренняя магнитная система 13, снабженная корпусом 14. Внешняя магнитная...
Способ получения наноразмерных пленок BaxSr1-XTiO3
Номер патента: 14780
Опубликовано: 30.08.2011
Авторы: Труханов Алексей Валентинович, Стогний Александр Иванович, Новицкий Николай Николаевич, Пашкевич Михаил Викторович
МПК: C30B 29/32, C30B 23/06, H01L 27/00...
Метки: способ, наноразмерных, получения, пленок, baxsr1-xtio3
Текст:
...пленки титаната бария-стронция, который заключается в том, что с помощью ионно-лучевого распыления в среде смеси газов аргона и кислорода напыляли буферный слой диоксида титана (2) на подложку из ситала. В дальнейшем на слой Т 2 методом ионно-лучевого распыления при температуре 620640 С наносили наноразмерную пленку 1-3. Недостатком данного способа является большая толщина гетероструктуры пленка 1-3 - буферный слой за счет большей (20 нм)...
Ионный источник
Номер патента: 13847
Опубликовано: 30.12.2010
Авторы: Труханов Алексей Валентинович, Стогний Александр Иванович, Пашкевич Михаил Викторович, Новицкий Николай Николаевич
МПК: H01J 27/00, H01L 3/00, H01J 27/02...
Текст:
...7, изолятор 8 между анодом 1 и фланцем 9 и изолятор 10 между дополнительным электродом 7 и фланцем 9. Со стороны анода 1 полый катод 2 закрыт фланцем 9 с осевым контрагирующим отверстием (на чертеже не показано), в которое введен анод 1. Внутри полого катода 2 расположена осесимметричная внутренняя магнитная система 11, снабженная корпусом 12. Внешняя магнитная система 5 и дополнительная магнитная система 6 ориентированы одноименными...
Способ изготовления прозрачного омического контакта к эпитаксиальному слою p-GaN
Номер патента: 13804
Опубликовано: 30.12.2010
Авторы: Стогний Александр Иванович, Новицкий Николай Николаевич
МПК: H01L 33/00, H01L 21/02
Метки: способ, контакта, слою, эпитаксиальному, прозрачного, изготовления, p-gan, омического
Текст:
...контактной структуры к - достигается по сравнению с прототипом тем, что при нанесении и последующем удалении дополнительных слоев оксида алюминия происходит преимущественное заполнение пустот (проколов), образовавшихся при росте пленки, диэлектрическим материалом, близкого по свойствам к соединениям нитридов третьей группы элементов, без его постороннего присутствия на плоских (бездефектных) участках поверхности, т.е. осуществляется...
Генератор атомарного водорода
Номер патента: 13950
Опубликовано: 30.12.2010
Авторы: Стогний Александр Иванович, Новицкий Николай Николаевич, Труханов Алексей Валентинович, Пашкевич Михаил Викторович
МПК: C23C 14/35, H01J 27/00
Метки: атомарного, водорода, генератор
Текст:
...кроме области соединения с ионизационной камерой 4, и таким образом, что между дополнительной полостью 6 и кожухом 7 образуется полость (на чертеже не показано), являющаяся водной рубашкой после заполнения проточной водой. Магнитная система 8 находится внутри водной рубашки и служит для создания магнитного поля величиной 0,1 Тл в области выхода торца полости кольцеобразного сечения 5 в дополнительную камеру 6. Кольцо 9 возле закрытого торца...
Способ изготовления прозрачного омического контакта к эпитаксиальному слою p-GаN
Номер патента: 13504
Опубликовано: 30.08.2010
Авторы: Шуленков Алексей Серафимович, Павловский Вячеслав Николаевич, Новицкий Николай Николаевич, Данильчик Александр Викторович, Стогний Александр Иванович, Луценко Евгений Викторович, Яблонский Геннадий Петрович
МПК: H01L 21/02, H01L 33/00
Метки: контакта, омического, p-gan, способ, прозрачного, эпитаксиальному, слою, изготовления
Текст:
...изобретения является увеличение термической стабильности и деградационной прочности прозрачных омических контактов к -. Поставленная задача решается следующим образом. В способе изготовления прозрачного омического контакта к эпитаксиальному слою -, заключающемся в ионноплазменной очистке поверхности эпитаксиального слоя - с последующим нанесением омического контакта наноразмерной толщины на нагретую до температуры 350-370 С...
Генератор атомарного водорода
Номер патента: 11620
Опубликовано: 28.02.2009
Авторы: Стогний Александр Иванович, Пашкевич Михаил Викторович, Новицкий Николай Николаевич
МПК: H01J 37/317, H01J 27/02, C23C 14/35...
Метки: водорода, атомарного, генератор
Текст:
...4 с продольной полостью кольцеобразного сечения 5 в боковой стенке ионизационной камеры 4 и дополнительная камера 6 закрытого вида, вакуумноплотно состыкованная с ионизационной камерой 4 (вакуумное уплотнение на чертеже не показано). В дополнительной камере 6 выполнено центральное отверстие (на чертеже не показано), согласованное по расположению и диаметру с наружным диаметром продольной полости кольцеобразного сечения 5. Дополнительная...
Ионный источник
Номер патента: 11305
Опубликовано: 30.10.2008
Авторы: Новицкий Николай Николаевич, Стогний Александр Иванович, Пашкевич Михаил Викторович
МПК: H01J 27/00
Текст:
...друг другу. Для обеспечения рабочих режимов ионного источника магнитные системы достаточно собрать из ферритовых постоянных магнитов (на чертеже не показаны) с величиной магнитной индукции каждого не менее 15 мТл и размерами, обеспечивающими объем в 12 см 3 каждого, потом равномерно их расположить друг от друга внутри каждой магнитной системы с зазорами между магнитами, не превышающими их характерного поперечного размера. Возле боковой...