G02B 17/00 — Оптические системы с отражающими поверхностями, с преломляющими элементами или без них

Номер патента: U 9792

Опубликовано: 30.12.2013

Авторы: Есьман Василий Михайлович, Агейченко Александр Степанович, Васильев Алексей Андреевич

МПК: G03F 7/20, G02B 17/00

Метки: система, проекционная, экспонирующая

Текст:

...источник света 11 знака совмещения ретикла экспонирующим светом. Этот свет освещает дифракционный знак совмещения ретикла 14. Свет от кольцевого темнопрольного источника света 11, проходящий через ретикл, не попадает во входную апертуру проекционного объектива 3 и не проходит через проекционный объектив 3. Дифракционный знак совмещения ретикла представляет собой двухмерную дифракционную решетку, то есть двухмерную периодическую...

Номер патента: U 7278

Опубликовано: 30.06.2011

Авторы: Есьман Василий Михайлович, Агейченко Александр Степанович, Васильев Алексей Андреевич

МПК: G03B 27/42, G02B 17/00

Метки: экспонирующая, проекционная, система

Текст:

...управления системой, фотоэлектрический датчик измерения положения плоскости резкого изображения проекционного объектива, установленный на проекционном объективе, а также содержит дополнительные осветители для освещения экспонирующим светом специальных знаков, расположенных на ретикле вне зоны экспонируемой топологии, с возможностью измерения координат изображений специальных знаков фотоприемником со щелевой диафрагмой, расположенной на...

Номер патента: U 7222

Опубликовано: 30.04.2011

Авторы: Агейченко Александр Степанович, Есьман Василий Михайлович, Трубчик Иван Трофимович

МПК: G02B 17/00, G03B 27/42

Метки: проекционная, система, экспонирующая

Текст:

...обработок (травление, имплантация, напыление) на поверхности подложки появляется определенный рельеф топологических структур изготавливаемых приборов. Особенно неровность поверхности подложки становится заметна на финишных технологических слоях. Слой фоторезиста, покрывающий подложку, не всегда нивелирует рельеф топологии. Поэтому изображение малого отверстия маски датчика фокусировки,построенное на такую поверхность, может попасть либо на...

Номер патента: U 6554

Опубликовано: 30.08.2010

Авторы: Черных Игорь Валентинович, Любанец Галина Казимировна, Чеботарев Анатолий Васильевич, Черняк Нинэль Андреевна, Секержицкий Олег Валерьевич, Троняк Борис Дмитриевич

МПК: G02B 17/00

Метки: трехзеркальная, система, экранирования, оптическая

Текст:

...близкого к дифракционному пределу, без центрального экранирования, с ходом лучей в пространстве изображений, близким к телецентрическому, что необходимо для обеспечения постоянства дисторсии при термических смещениях плоскости изображения и высокой равномерности освещенности по всему полю изображения. Технический результат - использование объектива в оптико-электронном космическом аппарате с угловым рабочим полем зрения 26,5. Эта задача...

Номер патента: U 6320

Опубликовано: 30.06.2010

Авторы: Артюхина Нина Константиновна, Демеш Максим Петрович

МПК: G02B 17/00

Метки: объектив, зеркальный, отражениями, четырьмя

Текст:

...фокусного расстояния с одновременным корригированием четырех монохроматических аберраций (сферическая аберрация, кома, астигматизм и кривизна изображения). Решение указанной задачи достигается тем, что в зеркальном объективе с четырьмя отражениями, содержащем выпуклое и вогнутое зеркала, установленные с возможностью построения изображения в фокальной плоскости объектива в результате четырех поочередных отражений светового пучка, при...

Номер патента: U 6048

Опубликовано: 28.02.2010

Автор: Агейченко Александр Степанович

МПК: G03B 27/42, G02B 17/00

Метки: система, экспонирующая, проекционная

Текст:

...изображения устройством экспонирования. Поставленная задача достигается тем, что проекционная экспонирующая система содержит источник экспонирующего излучения, координатный стол ретиклов с ретиклом,проекционный объектив, фотоприемник со щелевой диафрагмой, установленный на координатном столе пластин, выполненном с тремя приводами перемещения вдоль оптической оси объектива, фотоэлектрический датчик фокусировки, устройство управления...

Номер патента: 11762

Опубликовано: 30.04.2009

Автор: Артюхина Нина Константиновна

МПК: G02B 17/00

Метки: зеркальный, объектив

Текст:

...зеркало, поверхность которого расположена на общей подложке с первичным зеркалом, дополнительно содержит установленные после третьего зеркала четвертое и пятое плоские зеркала, первичное и вторичное зеркала выполнены с положительной эквивалентной оптической силой, третье зеркало - с оптической силой, в 2,5-3,5 раза превышающей оптическую силу первичного зеркала, при этом первичное и третье зеркала выполнены параболическими. Такая конструкция...

Номер патента: U 4940

Опубликовано: 30.12.2008

Авторы: Есьман Василий Михайлович, Агейченко Александр Степанович, Курахтина Оксана Викторовна

МПК: G03B 27/42, G02B 17/00

Метки: система, проекционная, экспонирующая

Текст:

...переноса изображения и увеличение производительности устройства экспонирования. Поставленная задача достигается тем, что проекционная экспонирующая система содержит источник экспонирующего излучения, координатный стол ретиклов с ретиклом,проекционный объектив, фотоприемник со щелевой диафрагмой, установленный на координатном столе пластин, выполненном с тремя приводами перемещения вдоль оптической оси объектива, фотоэлектрический...

Номер патента: U 4518

Опубликовано: 30.08.2008

Автор: Артюхина Нина Константиновна

МПК: G02B 17/00

Метки: объектив, зеркальный

Текст:

...объектива. Такая конструкция объектива, состоящего из трех асферических зеркал с дополнительным плоским зеркалом, обеспечивающим действительное промежуточное изображение между вторым и третьим зеркалами, позволяет увеличить поле зрения и повысить светосилу объектива не менее чем в десять раз, а также уменьшить осевые габариты объектива. Кроме того, первое и третье зеркала могут быть объединены в единую деталь монолит (двойное зеркало) -...

Номер патента: 7267

Опубликовано: 30.09.2005

Авторы: Агейченко Александр Степанович, Гуревич Элла Семеновна, Матюшков Владимир Егорович, Богуш Александр Львович, Тихончук Георгий Иванович, Цуран Владимир Ильич

МПК: G03F 7/20, G02B 27/18, G02B 17/00...

Метки: проекционная, экспонирования, увеличением, система

Текст:

...выполнены зеркальными, содержит две двояковыпуклые линзы, расположенные по обе стороны от призменного блока,одна из которых - перед плоскостью предметов, а вторая - перед плоскостью изображений, линза выполнена двояковыпуклой и расположена на расстоянии, составляющем 0,50,8 расстояния от плоскости предметов или плоскости изображений до вогнутого зеркала,двухлинзовый компонент состоит из двояковогнутой и двояковыпуклой линз и...