Ершова Надежда Васильевна
Способ изготовления низкопороговых КМДП-интегральных схем
Номер патента: 2335
Опубликовано: 30.09.1998
Авторы: Воронин Сергей Иванович, Костенко Евгений Михайлович, Ершова Надежда Васильевна
МПК: H01L 21/82
Метки: изготовления, кмдп-интегральных, схем, низкопороговых, способ
Текст:
...окислением в сухом ЕС 1 при Т 100 ОС 0создают подзатворный окисел толщиной 400 А. Из графиков, поназанннх на фиг.1 и 2, видно, что при этом пороговые напряжения р-канального транзистора соспэплнт 0,7 В, пнанального транзистора 050 В. Затем наносят полпкремний И с помощью фотолито г графин формируют электродьтзатворов и первый уровень металли зации. Затем формируют межслоиннй диэлектрик и о помощью фотолитографии вскрывают отверстия к...