C23C 14/24 — вакуумное испарение

Номер патента: 17820

Опубликовано: 30.12.2013

Авторы: Гременок Валерий Феликсович, Башкиров Семен Александрович

МПК: C23C 14/24, H01L 31/18, C30B 29/46...

Метки: пленок, тонких, способ, получения

Текст:

...Сущность изобретения заключается в использовании для переноса паров испаряемого материала к подложке кварцевой трубки с температурой 60010 С. Способ получения пленкивключает следующие стадии получение порошкапутем сплавления олова и серы очистка стеклянной подложки напыление пленки . На первом этапе проводят получение поликристаллического порошкапутем сплавления олова и серы, взятых в стехиометрическом соотношении с точностью до 510-4 г....

Номер патента: U 9472

Опубликовано: 30.08.2013

Авторы: Ходарина Людмила Петровна, Зеленин Виктор Алексеевич

МПК: H05H 1/54, C23C 14/24

Метки: импульсный, плазмы, генератор, нанесения, электроэрозионной, покрытий, алмазоподобных

Текст:

...импульсный вакуумно-дуговой разряд, факел плазмы которого распространяется от рабочей конической поверхности катода в сторону оси генератора. При достижении плазмой анода происходит возбуждение основного импульсного вакуумно-дугового разряда между катодом и анодом генератора,которые связаны между собой электрической цепью, включающей последовательно соединенные соленоид и основную конденсаторную батарею, отрицательный полюс которой...

Номер патента: U 9280

Опубликовано: 30.06.2013

Авторы: Гордиенко Анатолий Илларионович, Сенько Сергей Федорович

МПК: C23C 14/24

Метки: порошка, устройство, абразивного, частицы, вакуумного, нанесения, материала, металлического, покрытия

Текст:

...плотность абразивного материала, установленный под углом к вертикали с возможностью вращения с частотой от 10 до 20 об/мин, ось вращения контейнера расположена под углом 5-10 к его собственной оси с точкой пересечения осей вблизи верха контейнера. Сущность заявляемого технического решения заключается в интенсификации перемешивания частиц порошка за счет увеличения числа степеней свободы перемещения тел качения. Увеличение числа степеней...

Номер патента: U 9152

Опубликовано: 30.04.2013

Авторы: Алексеев Юрий Геннадьевич, Королев Александр Юрьевич, Слепнев Григорий Ефимович, Паршуто Александр Эрнстович, Нисс Владимир Семенович

МПК: C23C 14/24, C25F 7/00

Метки: покрытий, электрохимического, защитных, нанесения, устройство

Текст:

...возможностей, а также улучшение качества покрытия и экологии путем увеличения адгезии материала покрытия к поверхности заготовки. Решаемая задача достигается тем, что в устройстве для электрохимического нанесения защитных покрытий, содержащем источник питания постоянного тока для формирования катода и анода, рабочую ванну с электролитом, держатель для обрабатываемой заготовки,насосную станцию с накопительной емкостью коррекции...

Номер патента: 16199

Опубликовано: 30.08.2012

Авторы: Селифанов Сергей Олегович, Селифанов Олег Владимирович

МПК: H05H 1/24, C23C 14/24

Метки: вакуумно-дуговой, источник, импульсный, плазмы, технологический

Текст:

...если каждый узел первичного плазмообразования содержит от 2 до 10 изоляторов. Отсутствие научно-технических публикаций, касающихся вышеуказанных отличительных признаков импульсного вакуумно-дугового технологического источника плазмы,подтверждает новизну предлагаемого изобретения. Признать же отличительные признаки существенными позволяет наличие ряда нижеперечисленных положительных факторов,способствующих решению задачи,...

Номер патента: 16244

Опубликовано: 30.08.2012

Авторы: Рогачев Александр Владимирович, Федосенко Николай Николаевич, Пилипцов Дмитрий Геннадьевич

МПК: C23C 14/24, C23C 14/06, C23C 16/26...

Метки: формирования, способ, вакууме, углеродного, покрытия

Текст:

...следующем. Способ формирования углеродных пленок из плазмы сильноточного импульсного катодно-дугового разряда сложной формы основан на эффекте эрозии катода из графита при действии импульсного катодно-дугового разряда в вакууме, формировании направленного к подложке потока плазмы и конденсации ее на подложку. Изменение амплитуды напряжения импульса и его длительности позволяет регулировать величину среднего тока разряда, который в свою...

Номер патента: 15858

Опубликовано: 30.06.2012

Авторы: Гордиенко Анатолий Илларионович, Зеленин Виктор Алексеевич, Смоляк Василий Васильевич

МПК: C23C 14/24

Метки: материала, покрытия, абразивного, порошка, нанесения, частицы, металлического, вакуумного, устройство

Текст:

...на некоторую высоту и высыпания порошка на поверхность общей массы. С другой стороны, в процессе высыпания частиц порошка, они перекатываются по плоской поверхности контейнера и начинают вращаться вокруг своей оси. За счет этого все стороны одной и той же частицы равновероятно подвергаются воздействию напыляемого потока покрытия. Увеличение числа степеней свободы перемещения частиц в процессе напыления достигается за счет их вращения при...

Номер патента: 15519

Опубликовано: 28.02.2012

Авторы: Зеленковский Эдуард Михайлович, Зеленин Виктор Алексеевич, Акула Игорь Петрович

МПК: H05H 1/24, C23C 14/24

Метки: генератор, плазмы, тонкой, пленки, электроэрозионной, импульсный, алмазоподобной, нанесения

Текст:

...сторону оси генератора. При достижении плазмой анода происходит возбуждение основного импульсного вакуумно-дугового разряда между катодом и анодом генератора, которые связаны между собой электрической цепью, подключенной к основной конденсаторной батарее, отрицательный полюс которой соединен с катодом, а положительный - с анодом генератора. Зона возбуждения инициирующего импульсного дугового разряда перемещается от импульса к импульсу, что...

Номер патента: 15058

Опубликовано: 30.12.2011

Автор: Сенько Сергей Федорович

МПК: C23C 14/24

Метки: порошка, абразивного, вакуумного, способ, покрытия, частицы, металлического, нанесения, материала

Текст:

...лопастей. Винтовое движение перемешивающих лопастей постоянно выталкивает частицы порошка из донной части контейнера. Смещение оси вращения контейнера по отношению к его геометрической оси позволяет интенсифицировать перемещение частиц порошка в горизонтальном направлении за счет постоянного встряхивания всей массы порошка в горизонтальном направлении. Интенсивность такого встряхивания зависит от расстояния между осями. Экспериментально...

Номер патента: 15057

Опубликовано: 30.12.2011

Авторы: Сенько Сергей Федорович, Устинович Дмитрий Федорович, Лях Анатолий Александрович

МПК: C23C 14/24

Метки: материала, металлического, частицы, порошка, покрытия, нанесения, вакуумного, абразивного, устройство

Текст:

...перекатыванием их по поверхности абразивной массы, что приводит к уменьшению силового воздействия тел и снижению интенсивности перемешивания порошка. В результате возрастает количество агрегатов в готовом продукте и уменьшается равномерность покрытия. Выбор плотности материала тел качения более 2,6 сопровождается возрастанием ударного действия тел качения на поверхность частиц порошка как непосредственно, так и через слои...

Номер патента: 15056

Опубликовано: 30.12.2011

Авторы: Сенько Сергей Федорович, Лях Анатолий Александрович, Устинович Дмитрий Федорович

МПК: C23C 14/24

Метки: нанесения, металлического, способ, порошка, материала, частицы, вакуумного, покрытия, абразивного

Текст:

...качения, что сопровождается нарушением сплошности покрытия, дроблением абразивных зерен и выбросом их из контейнера. Выбор плотности материала тел качения менее 1,8, где- плотность абразивного материала, сопровождается преимущественным перекатыванием их по поверхности абразивной массы, что приводит к уменьшению силового воздействия тел и снижению интенсивности перемешивания порошка. В результате возрастает количество агрегатов в готовом...

Номер патента: 14060

Опубликовано: 28.02.2011

Авторы: Селифанов Сергей Олегович, Селифанов Олег Владимирович

МПК: H05H 1/24, C23C 14/24

Метки: вакуумно-дуговой, сильноточный, технологический, импульсный, плазмы, источник

Текст:

...запасенной во вспомогательной конденсаторной батарее и сопровождается интенсификацией процесса получения инициирующей плазмы. Под действием бомбардировки электронами, извлекаемыми из плазмы разряда, происходит локальный разогрев материала катода в отдельных микровыступах,всегда имеющихся на расходуемом торце катода. В то же время инициирующая плазма перемыкает вакуумный промежуток, образованный электродом-экраном и поджигающим...

Номер патента: U 6837

Опубликовано: 30.12.2010

Авторы: Селифанов Сергей Олегович, Селифанов Олег Владимирович

МПК: H05H 1/00, C23C 14/24

Метки: импульсный, плазмы, источник, технологический, вакуумно-дуговой

Текст:

...Предпочтительно, если количество узлов первичного плазмообразования выбрано из интервала 2-8, а количество конденсаторных блоков - из интервала 2-4. Лучше, если каждый узел первичного плазмообразования оснащен, по меньшей мере,еще одним изолятором с инициирующим тонкопленочным токопроводом, а инициирующий электрод выполнен с возможностью обеспечения плотного прижима каждого изолятора к соответствующему поджигающему электроду. Удобно,...

Номер патента: U 6312

Опубликовано: 30.06.2010

Авторы: Зеленковский Эдуард Михайлович, Зеленин Виктор Алексеевич, Акула Игорь Петрович

МПК: H05H 1/24, C23C 14/24

Метки: электроэрозионной, нанесения, импульсный, генератор, плазмы, покрытий, алмазоподобных

Текст:

...поверхности катода возникают локальные катодные пятна и между электродом поджига и рабочей конической 3 63122010.06.30 поверхностью катода происходит предварительный импульсный вакуумно-дуговой разряд, факел плазмы которого распространяется от рабочей конической поверхности катода в сторону оси генератора. При достижении плазмой анода происходит возбуждение основного импульсного вакуумно-дугового разряда между катодом и анодом...

Номер патента: 13157

Опубликовано: 30.04.2010

Авторы: Смоляк Василий Васильевич, Гордиенко Анатолий Илларионович

МПК: C23C 14/24, B24D 17/00

Метки: алмазный, способ, покрытия, порошок, нанесения

Текст:

...трением частицы о поверхность контейнера, приложена к внешней поверхности частицы и направлена вверх. Вращение контейнера вокруг оси приводит к постоянному смещению направления действия силы трения, что приводит к постоянному изменению направления вращения частиц. В результате вся поверхность всех частиц равновероятно подвергается воздействию распыляемого материала покрытия, что значительно повышает равномерность нанесения покрытия....

Номер патента: U 5669

Опубликовано: 30.10.2009

Авторы: Чекан Николай Михайлович, Селифанов Олег Владимирович, Селифанов Сергей Олегович

МПК: C23C 14/24, H05H 1/00

Метки: источник, импульсный, технологический, вакуумно-дуговой, плазмы

Текст:

...расходуется 1,22,5 мм высоты подлежащего расходованию участка катода, при этом радиус катода из-за наличия конусности уменьшается на 0,10,2 мм при угле уклона 5 и на 0,71,4 мм при угле уклона 30. Поскольку величина зазора между катодом и электродом-экраном ограничена значением 2,5 мм, а исходное ее значение равно 1,5 мм, высота израсходованной части материала катода составляет максимум 2 мм при угле уклона 30 и 12 мм при угле уклона 5. В...

Номер патента: U 4887

Опубликовано: 30.12.2008

Авторы: Селифанов Сергей Олегович, Чекан Николай Михайлович, Селифанов Олег Владимирович

МПК: C23C 14/24, H05H 1/00

Метки: вакуумно-дуговой, источник, технологический, плазмы, импульсный

Текст:

...увеличение межпрофилактического ресурса высоконадежного функционирования технологического импульсного вакуумно-дугового источника плазмы с высокой равномерностью выработки расходуемого торца катода. Поставленная задача достигается тем, что в известном технологическом импульсном вакуумно-дуговом источнике плазмы, содержащем охлаждаемый кольцевой нерасходуемый анод, установленный соосно с ним и выполненный с возможностью осевого перемещения...

Номер патента: U 4567

Опубликовано: 30.08.2008

Авторы: Селифанов Олег Владимирович, Селифанов Сергей Олегович

МПК: C23C 14/24, H05H 1/00

Метки: плазмы, генератор, технологический, импульсный, вакуумно-дуговой

Текст:

...конусной поверхности расходуемого электрода выбран из интервала 520 . Отличием предлагаемого технологического импульсного вакуумно-дугового генератора плазмы является и то, что экран выполнен с возможностью подвода к нему электрического напряжения. Отсутствие научно-технических публикаций, касающихся вышеуказанных отличительных признаков технологического импульсного вакуумно-дугового генератора плазмы,подтверждает новизну полезной модели....

Номер патента: 10555

Опубликовано: 30.04.2008

Авторы: Селифанов Олег Владимирович, Точицкий Эдуард Иванович, Селифанов Сергей Олегович

МПК: H05H 1/24, C23C 14/24

Метки: источник, импульсный, вакуумно-дуговой, плазмы

Текст:

...в направлении какой-нибудь образующей вышеупомянутых конусно-сопряженных поверхностей. Более того, такое техническое решение обеспечивает частичное залечивание электроэрозионной выработки за счет осаждения в ней части плазмы основного импульсного вакуумно-дугового разряда. Выполнение схемы питания с возможностью обеспечения второго вспомогательного разряда между расходуемым электродом и кольцевым экраном, охватывающим боковую...

Номер патента: 9264

Опубликовано: 30.06.2007

Авторы: Точицкий Эдуард Иванович, Селифанов Олег Владимирович, Селифанов Сергей Олегович

МПК: H05H 1/48, C23C 14/24, H05H 1/24...

Метки: ускоритель, вакуумно-дуговой, импульсный, технологический, плазменный

Текст:

...Отсутствие научно-технических публикаций, касающихся вышеуказанных отличительных признаков технологического импульсного вакуумно-дугового плазменного ускорителя, подтверждает новизну предлагаемого изобретения. Вышеуказанная форма выполнения внутренней поверхности кольцевого изолятора при имеющем место отсутствии заметных следов ее повреждения в процессе достаточно продолжительной эксплуатации ускорителя позволяет эффективно использовать...

Номер патента: 8431

Опубликовано: 30.08.2006

Авторы: Синцов Сергей Иванович, Григорович Игорь Михайлович, Жоглик Игорь Николаевич

МПК: C23C 14/24

Метки: нанесения, покрытий, вакууме, устройство

Текст:

...происходит несимметричная нагрузка трансформатора в процессе вакуумно-дугового осаждения покрытия. Задачей предлагаемого изобретения является создание устройства для нанесения покрытий в вакууме, обеспечивающего получение покрытий повышенного качества на более широкий ряд материалов изделий (силумины, латунь, пластмассы) и позволяющего наиболее эффективно использовать мощность вакуумно-дугового разряда в процессе осаждения покрытий....

Номер патента: U 2469

Опубликовано: 28.02.2006

Авторы: Жоглик Игорь Николаевич, Андреев Михаил Анатольевич

МПК: C23C 14/24

Метки: устройство, вакууме, нанесения, покрытий

Текст:

...на трех шпильках 4 шайбы-изоляторы из фторопласта 5 с электродами поджига 6. Рабочая часть электродов поджига (напыленная керамическая соломка) контактирует с испаряемым катодом в конце,противоположном токоподводу. К этому уровню от шайб изоляторов на трех шпильках 7 крепятся экраны из нержавеющей стали 8, которые предохраняют керамические термоизоляторы 9 с электродами поджига 6 от запыления. Эти экраны также выполняют функции дополнительного...

Номер патента: 6136

Опубликовано: 30.06.2004

Авторы: Плахотнюк Василий Иванович, Иващенко Сергей Анатольевич, Фролов Игорь Станиславович, Макаревич Евгений Владимирович

МПК: C23C 14/24

Метки: вакууме, покрытий, устройство, нанесения

Текст:

...15, установленный на одном валу с ведущей шестерней 13 поворотного держателя, и ведомый диск 16 кулачка 17,обеспечивающего периодическое возвратно-поступательное перемещение вала 7 поворотного держателя с пакетом дисков 8 относительно обрабатываемых изделий 3. Силовое замыкание кулачка 17 с валом 7 создается пружиной 18. Время одного оборота вала кулачка 17 фиксируется датчиком 19. Для электрической изоляции пакета дисков 8 вал 7 поворотного...

Номер патента: 5421

Опубликовано: 30.09.2003

Авторы: Прасад Шрикришна АПТЕ, Родерик Джон ПРИХТ, Роберт Эдвард БАРРЕЛЛ, Катрин Лаури МАКИНТОШ, Лэрри Рой МОРРИС, Садхиндра Бхарат САНТ, Кашмир Сингх ДЖИЛЛ

МПК: A61L 31/08, C23C 14/14, A01N 59/16...

Метки: тонкозернистый, получения, способ, материала, антимикробного, материал, антимикробный

Текст:

...по п. 21, отличающийся тем, что величина отношения температуры его рекристаллизации к температуре его плавления, в градусах Кельвина (Т рек./Т пп.), составляет менее 0,3.23. Материал по п. 21, отличающийся тем, что имеет температуру рекристаллизации менее 140 С.24. Материал по п. 23, отличающийся тем, что имеет размер частиц менее 200 нм.25. Материал по п. 23, отличающийся тем, что имеет размер частиц менее 140 нм.26. Материал по п. 23,...