Патенты с меткой «высоковольтных»
Система для заземления высоковольтных устройств
Номер патента: 16459
Опубликовано: 30.10.2012
Автор: Головнёв Владимир Андреевич
МПК: H01R 4/66, H01H 31/02
Метки: заземления, устройств, высоковольтных, система
Текст:
...Главным недостатком является то, что обеспечиваемый данным способом контактный переход медь - сталь на ножах заземления имеет значительное электрическое сопротивление, что в итоге приводит к снижению требуемых характеристик вала ножей заземления, снижению надежности и срока службы. Автору неизвестно применение биметалла (медьсталь) в системах для заземления высоковольтных устройств. Задачей изобретения является разработка системы для...
Вал ножей заземления высоковольтных устройств
Номер патента: U 7409
Опубликовано: 30.08.2011
Автор: Головнёв Владимир Андреевич
МПК: H01H 31/00
Метки: устройств, вал, ножей, высоковольтных, заземления
Текст:
...Ножи заземления приварены к валу. К контактным пластинам ножей заземления приклепаны медные контакты. Главным недостатком является то, что обеспечиваемый данным способом контактный переход медь-сталь на ножах заземления имеет значительное электрическое сопротивление, что в итоге приводит к снижению требуемых характеристик вала ножей заземления,снижению надежности и срока службы. Автору неизвестно применение биметалла (медьсталь) в...
Многослойное пассивирующее покрытие для высоковольтных полупроводниковых приборов
Номер патента: 11325
Опубликовано: 30.12.2008
Авторы: Глухманчук Владимир Владимирович, Солодуха Виталий Александрович, Пуцята Владимир Михайлович, Турцевич Аркадий Степанович, Соловьев Ярослав Александрович
МПК: H01L 21/02
Метки: приборов, полупроводниковых, многослойное, покрытие, высоковольтных, пассивирующее
Текст:
...приводящие к нарушению сплошности пассивирующих слоев, изгибу и разрушению подложки,что обусловливает снижение выхода годных. При нанесении в качестве фосфорсодержащего легкоплавкого стекла борофосфоросиликатного стекла (БФСС) толщиной 0,6-2,0 мкм с суммарным содержанием бора и фосфора 8-10 мас.при содержании фосфора 3,8-5,0 мас.появляется дополнительное преимущество-возможность оплавления стекла при более низких температурах, что...
Способ изготовления быстродействующих высоковольтных диодов
Номер патента: 11307
Опубликовано: 30.10.2008
Авторы: Жданович Николай Евгеньевич, Марченко Игорь Георгиевич, Кульгачев Владимир Ильич, Коршунов Федор Павлович
МПК: H01L 21/02
Метки: способ, диодов, быстродействующих, изготовления, высоковольтных
Текст:
...в базе приборов эффективных центров рекомбинации, снижающих время жизни неосновных носителей заряда и способствующих увеличению быстродействия приборов. Однако снижение времени жизни приводит к росту прямого падения напряжения диодов (Ипр) и его выходу за рамки, определяемыми техническими условиями ТУ, вследствие уменьшения глубины модуляции проводимости базовой области неосновными носителями заряда. Изменение Ипр при этом определяется...
Способ отбраковки высоковольтных кремниевых полупроводниковых диодов по радиационной стойкости
Номер патента: 11098
Опубликовано: 30.08.2008
Авторы: Коршунов Федор Павлович, Жданович Николай Евгеньевич, Марченко Игорь Георгиевич
МПК: H01L 21/66, G01R 31/26
Метки: отбраковки, полупроводниковых, радиационной, высоковольтных, стойкости, диодов, кремниевых, способ
Текст:
...стойкость кремниевых диодов обычно определяется устойчивыми изменениями на прямой ветви вольтамперной характеристики, обусловленными радиационными эффектами смещений в кристалле кремния. Однако в ряде случаев радиационная стойкость кремниевых диодов может определяться изменениями на обратной 2 11098 1 2008.08.30 ветви вольтамперной характеристики, обусловленными поверхностными радиационными эффектами, наступающими даже при малых дозах...
Способ регулирования времени жизни неосновных носителей заряда в мощных высоковольтных быстродействующих полупроводниковых приборах, изготавливаемых на базе ядернолегированного кремния
Номер патента: 10595
Опубликовано: 30.04.2008
Авторы: Марченко Игорь Георгиевич, Жданович Николай Евгеньевич, Коршунов Федор Павлович
МПК: H01L 21/02
Метки: базе, изготавливаемых, кремния, регулирования, полупроводниковых, быстродействующих, ядернолегированного, времени, мощных, способ, высоковольтных, жизни, приборах, заряда, неосновных, носителей
Текст:
...материала при производстве мощных высоковольтных приборов в результате облучения электронами с энергией 4-25 МэВ и последующего высокотемпературного отжига происходит образование эффективных центров рекомбинации, стабильных при температурах выше температуры посадки приборных структур на термокомпенсатор (порядка 600 С), которые позволяют обеспечить высокое быстродействие при низком уровне потерь в проводящем состоянии и небольших токах...
Устройство для защиты высоковольтных трансформаторов тока от импульсных коммутационных перенапряжений
Номер патента: 7376
Опубликовано: 30.09.2005
Авторы: Новаш Татьяна Анатольевна, ГИНЗБУРГ МАРАТ ЛЬВОВИЧ, ПЕКЕЛИС ВСЕВОЛОД ГРИГОРЬЕВИЧ
МПК: H02H 7/04
Метки: перенапряжений, тока, коммутационных, устройство, трансформаторов, высоковольтных, імпульсных, защиты
Текст:
...устройства, на которой приняты следующие условные обозначения 1 - первичная обмотка 2 - вторичная обмотка 3 - дроссель резонансного фильтра 4 - конденсатор резонансного фильтра. Для пояснения принципа действия предложенного устройства воспользуемся схемой замещения . Указанная схема приведена на фиг. 2. Она представляет собой пассивный четырехполюсник. На схеме приняты следующие условные обозначения 1 - полное сопротивление первичной...
Устройство для измерения высоковольтных импульсов напряжения
Номер патента: U 358
Опубликовано: 30.09.2001
Авторы: Пилипенко Олег Игоревич, Клинов Александр Георгиевич
МПК: G01R 15/06, G01R 15/04
Метки: напряжения, измерения, устройство, импульсов, высоковольтных
Текст:
...на собственной резонансной частоте, переносе соб 2 358 ственной резонансной частоты высокочастотных колебаний в низкочастотную область с последующим уничтожением одиночного апериодического выброса. Этот перенос осуществляется введением в высоковольтную часть делителя напряжения сосредоточенной индуктивности . При этом собственная резонансная 1 частота делителя 0. Введенная сосредоточенная индуктивность суммируется с распределенной 2...