Патенты с меткой «пучком»
Управление пучком энергии, обработка сигнала, усиление и компьютерная логическая схема с использованием эффекта интерференции
Номер патента: 4353
Опубликовано: 30.03.2002
Авторы: ХЕЙТ, Джон Н.
Метки: обработка, сигнала, энергии, эффекта, управление, усиление, схема, компьютерная, пучком, интерференции, логическая, использованием
Текст:
...будет ли происходить конструктивная или деструктивная интерференция в положении, когда она наложена на другую несущую волну. Термины инвертированная и неинвертированная относятся к огибающей модулированной формы волны, а не к фазе несущей волны. Когда говорят, что амплитудно-модулированная несущая волна инвертирована, это означает,что она неактивирована в тот период, когда неинвертированная несущая волна активирована, что и...
Частотно-уплотненная логическая схема, усиление и управление пучком энергии с использованием эффекта интерференции
Номер патента: 4351
Опубликовано: 30.03.2002
Авторы: ХЕЙТ, Джон Н.
Метки: эффекта, энергии, интерференции, частотно-уплотненная, логическая, усиление, схема, управление, пучком, использованием
Текст:
...и сопровождающих его фотографиях заявитель отметил ряд черт его осуществления, выходящих далеко за рамки рассматриваемой темы и, очевидно, не раскрытых или не понятых до настоящего времени ни одним научным изданием. Конкретно, несмотря на тот факт, что множество интерференционных полос были созданы эталоном одновременно, выделенные изображения не были искажены в силу наличия интерференции между волнами других длин. Это указывает на то, что...
Плазменный источник электронов с пучком большого сечения
Номер патента: U 469
Опубликовано: 30.03.2002
Авторы: Залесский Виталий Геннадьевич, Голубев Юрий Петрович, Груздев Владимир Алексеевич
МПК: H01J 3/04
Метки: большого, плазменный, электронов, пучком, источник, сечения
Текст:
...состоящем из газоразрядной камеры, которая включает в себя два катода, анод и постоянные магниты,и из формирователя-расширителя с эмиттерным сеточным электродом, в отличие от прототипа эмиттерный электрод выполнен в виде двух эквипотенциальных сеток с расстоянием между ними, равным 0,8-2 размера ячейки сетки, т.е. в источнике применена новая двухсеточная схема стабилизации эмитирующей плазменной поверхности. На фигуре представлен заявляемый...
Установка для лазерной обработки кольцевым пучком
Номер патента: U 235
Опубликовано: 30.03.2001
Авторы: Никитюк Юрий Валерьевич, Шалупаев Сергей Викентьевич, Максименко Александр Васильевич, Мышковец Виктор Николаевич, Каморников Игорь Михайлович
МПК: B23K 26/00
Метки: лазерной, пучком, кольцевым, установка, обработки
Текст:
...в зависимости от его вида, требуемого размера зоны обработки, что расширяет ее технологические возможности и область применения. Вторым важным преимуществом заявляемой установки является ее более высокая производительность в случаях многократной обработки, например при пробивке множества отверстий в изделиях. Последнее преимущество обеспечивается двухлучевой обработкой. Расширение технологических возможностей при двухлучевой обработке...