Патенты с меткой «плазмы»

Номер патента: U 10193

Опубликовано: 30.08.2014

Авторы: Терешко Ирина Васильевна, Редько Всеволод Петрович, Логвин Владимир Александрович, Волченков Александр Владимирович, Логвина Екатерина Владимировна

МПК: C23C 14/38

Метки: интенсивности, устройство, плазмы, контроля, тлеющего, разряда, излучения

Текст:

...а вокруг направляющих установлены фиксирующе-затеняющие упругие шторки. На внутренней стороне корпуса вне направляющих дополнительно установлены прижимы с возможностью быстрой установки и снятия по меньшей мере одного интерференционного фильтра. В процессе обработки изделий из металлов и сплавов в плазме тлеющего разряда для достижения оптимальных параметров плазмы и соответственно качества обработки необходимо контролировать степень...

Номер патента: U 9963

Опубликовано: 28.02.2014

Авторы: Редько Всеволод Петрович, Волченков Александр Владимирович, Логвин Владимир Александрович, Терешко Ирина Васильевна, Логвина Екатерина Владимировна

МПК: C23C 14/38

Метки: излучения, разряда, электромагнитного, контроля, плазмы, тлеющего, устройство

Текст:

...корпус, который установлен снаружи вакуумной камеры около смотрового окна, при этом одна ось симметрии токопроводящего контура расположена в плоскости, параллельной плоскости смотрового окна, а вторая ось симметрии токопроводящего контура перпендикулярна ей. Дополнительно устройство снабжено по меньшей мере одним токопроводящим контуром, и токопроводящие контуры расположены с равным угловым шагом относительно оси симметрии...

Номер патента: 17727

Опубликовано: 30.12.2013

Авторы: Филатова Ирина Ивановна, Трухачёв Федор Михайлович, Ажаронок Виктор Васильевич, Чубрик Николай Иванович

МПК: H05H 15/00

Метки: ускорения, частиц, способ, заряженных, газоразрядной, послесвечении, микро, наноразмерных, пылевых, плазмы

Текст:

...для исследований параметров пылевой плазмы высокочастотного емкостного разряда приведена на фиг. 1, где 1 - вакуумная камера, 2 - верхний электрод, 3 - нижний электрод, 4 - кварцевые пластины, 5 - излучатель, 6 - высокочастотный генератор, 7 - индуктор, 8 - вольтметр, 9 -вольтметр, 10 проходной конденсатор, 11 - источник питания постоянного тока, 12 -электрический пе 2 17727 1 2013.12.30 реключатель, 2 - электрическая емкость между...

Номер патента: U 9472

Опубликовано: 30.08.2013

Авторы: Ходарина Людмила Петровна, Зеленин Виктор Алексеевич

МПК: H05H 1/54, C23C 14/24

Метки: импульсный, нанесения, электроэрозионной, алмазоподобных, покрытий, плазмы, генератор

Текст:

...импульсный вакуумно-дуговой разряд, факел плазмы которого распространяется от рабочей конической поверхности катода в сторону оси генератора. При достижении плазмой анода происходит возбуждение основного импульсного вакуумно-дугового разряда между катодом и анодом генератора,которые связаны между собой электрической цепью, включающей последовательно соединенные соленоид и основную конденсаторную батарею, отрицательный полюс которой...

Номер патента: 16199

Опубликовано: 30.08.2012

Авторы: Селифанов Олег Владимирович, Селифанов Сергей Олегович

МПК: H05H 1/24, C23C 14/24

Метки: источник, технологический, плазмы, импульсный, вакуумно-дуговой

Текст:

...если каждый узел первичного плазмообразования содержит от 2 до 10 изоляторов. Отсутствие научно-технических публикаций, касающихся вышеуказанных отличительных признаков импульсного вакуумно-дугового технологического источника плазмы,подтверждает новизну предлагаемого изобретения. Признать же отличительные признаки существенными позволяет наличие ряда нижеперечисленных положительных факторов,способствующих решению задачи,...

Номер патента: 15554

Опубликовано: 28.02.2012

Авторы: Гусаков Евгений Зиновьевич, Симончик Леонид Васильевич, Архипенко Валерий Иванович, Усаченок Максим Сергеевич

МПК: H05H 1/46

Метки: неустойчивости, абсолютной, плазмы, способ, реализации, устройство, параметрической, подавления, неоднородной

Текст:

...дополнительной СВЧ волны, выход которого через подводящий волновод соединен с объемом с неоднородной плазмой, соединенным через принимающий волновод с третьим ферритовым вентилем, подключенным через узкополосный фильтр ко входу СВЧ детектора. Генератор дополнительной СВЧ волны выполнен с частотой генерации больше или меньше частоты 2 15554 1 2012.02.28 генерации СВЧ волны накачки на величину от 0,95 до 1 МГц и мощностью меньше пороговой...

Номер патента: 15519

Опубликовано: 28.02.2012

Авторы: Акула Игорь Петрович, Зеленковский Эдуард Михайлович, Зеленин Виктор Алексеевич

МПК: H05H 1/24, C23C 14/24

Метки: алмазоподобной, тонкой, нанесения, пленки, генератор, электроэрозионной, плазмы, импульсный

Текст:

...сторону оси генератора. При достижении плазмой анода происходит возбуждение основного импульсного вакуумно-дугового разряда между катодом и анодом генератора, которые связаны между собой электрической цепью, подключенной к основной конденсаторной батарее, отрицательный полюс которой соединен с катодом, а положительный - с анодом генератора. Зона возбуждения инициирующего импульсного дугового разряда перемещается от импульса к импульсу, что...

Номер патента: 14068

Опубликовано: 28.02.2011

Авторы: Архипенко Валерий Иванович, Сафронов Евгений Александрович, Симончик Леонид Васильевич

МПК: H05H 1/24

Метки: получения, молекулярных, способ, устройство, трехэлектродной, системе, плазмы, неравновесной, атмосферном, газах, давлении, реализации, объемной

Текст:

...плазмы при атмосферном давлении в молекулярных газах в трехэлектродной системе, заключающийся в том, что обеспечивает проток инертного газа, например гелия или неона, или аргона, через отверстие в среднем 2 14068 1 2011.02.28 электроде из первой во вторую секцию разрядной камеры, с зажиганием самостоятельного нормального тлеющего разряда между средним электродом и электродом-катодом первой секции посредством сведения до касания и...

Номер патента: 14060

Опубликовано: 28.02.2011

Авторы: Селифанов Олег Владимирович, Селифанов Сергей Олегович

МПК: C23C 14/24, H05H 1/24

Метки: сильноточный, технологический, вакуумно-дуговой, импульсный, плазмы, источник

Текст:

...запасенной во вспомогательной конденсаторной батарее и сопровождается интенсификацией процесса получения инициирующей плазмы. Под действием бомбардировки электронами, извлекаемыми из плазмы разряда, происходит локальный разогрев материала катода в отдельных микровыступах,всегда имеющихся на расходуемом торце катода. В то же время инициирующая плазма перемыкает вакуумный промежуток, образованный электродом-экраном и поджигающим...

Номер патента: 13825

Опубликовано: 30.12.2010

Авторы: Вершина Алексей Константинович, Агеев Виталий Александрович

МПК: C23C 14/48, C23C 14/32

Метки: макрочастиц, очистки, дугового, плазмы, испарителя, устройство, незаряженных

Текст:

...наиболее сильно проявляется для плазмы легких металлов и связано с отклонением ионов в сторону увеличения напряженности магнитного поля в процессе дрейфа последних в осевом направлении криволинейного участка плазмовода. Технической задачей предлагаемого изобретения является повышение равномерности толщины покрытий, формируемых вакуумным электродуговым методом с устройством для очистки плазмы вакуумной дуги от макрочастиц. Поставленная...

Номер патента: U 6837

Опубликовано: 30.12.2010

Авторы: Селифанов Сергей Олегович, Селифанов Олег Владимирович

МПК: C23C 14/24, H05H 1/00

Метки: технологический, плазмы, вакуумно-дуговой, источник, импульсный

Текст:

...Предпочтительно, если количество узлов первичного плазмообразования выбрано из интервала 2-8, а количество конденсаторных блоков - из интервала 2-4. Лучше, если каждый узел первичного плазмообразования оснащен, по меньшей мере,еще одним изолятором с инициирующим тонкопленочным токопроводом, а инициирующий электрод выполнен с возможностью обеспечения плотного прижима каждого изолятора к соответствующему поджигающему электроду. Удобно,...

Номер патента: U 6312

Опубликовано: 30.06.2010

Авторы: Акула Игорь Петрович, Зеленковский Эдуард Михайлович, Зеленин Виктор Алексеевич

МПК: C23C 14/24, H05H 1/24

Метки: генератор, электроэрозионной, алмазоподобных, покрытий, нанесения, плазмы, импульсный

Текст:

...поверхности катода возникают локальные катодные пятна и между электродом поджига и рабочей конической 3 63122010.06.30 поверхностью катода происходит предварительный импульсный вакуумно-дуговой разряд, факел плазмы которого распространяется от рабочей конической поверхности катода в сторону оси генератора. При достижении плазмой анода происходит возбуждение основного импульсного вакуумно-дугового разряда между катодом и анодом...

Номер патента: 12635

Опубликовано: 30.12.2009

Авторы: Грибовская Ольга Викторовна, Мартинович Вера Павловна, Голубович Владимир Петрович, Шутова Ирина Владимировна, Свиридов Олег Васильевич, Цыганова Олеся Васильевна, Макаревич Денис Александрович

МПК: G01N 33/564, A61K 39/395, G01N 33/531...

Метки: сыворотки, варианты, тироидной, человека, пероксидазе, крови, или, аутоантител, биоспецифический, иммуносорбент, элиминации, селективной, плазмы

Текст:

...сушки этилацетат упаривают, а образовавшийся маслообразный остаток переосаждают из эфира петролейным эфиром и сушат над 25. Получают 0,65 г (выход 68 ) соединения 20 - 14,5 (С 1, МеОН)0,88 (А). Стадия 4. Получение (-)- . К суспензии 0,51 г (0,9 ммоль) (-)-в 1,0 мл этилацетата добавляют 4,6 мл 4,4 н раствора НС в этилацетате. Реакционную смесь перемешивают около часа, затем растворитель упаривают, а остаток промывают этилацетатом, эфиром. Сушат...

Номер патента: U 5669

Опубликовано: 30.10.2009

Авторы: Чекан Николай Михайлович, Селифанов Сергей Олегович, Селифанов Олег Владимирович

МПК: H05H 1/00, C23C 14/24

Метки: плазмы, вакуумно-дуговой, источник, импульсный, технологический

Текст:

...расходуется 1,22,5 мм высоты подлежащего расходованию участка катода, при этом радиус катода из-за наличия конусности уменьшается на 0,10,2 мм при угле уклона 5 и на 0,71,4 мм при угле уклона 30. Поскольку величина зазора между катодом и электродом-экраном ограничена значением 2,5 мм, а исходное ее значение равно 1,5 мм, высота израсходованной части материала катода составляет максимум 2 мм при угле уклона 30 и 12 мм при угле уклона 5. В...

Номер патента: U 4887

Опубликовано: 30.12.2008

Авторы: Чекан Николай Михайлович, Селифанов Олег Владимирович, Селифанов Сергей Олегович

МПК: H05H 1/00, C23C 14/24

Метки: вакуумно-дуговой, плазмы, импульсный, технологический, источник

Текст:

...увеличение межпрофилактического ресурса высоконадежного функционирования технологического импульсного вакуумно-дугового источника плазмы с высокой равномерностью выработки расходуемого торца катода. Поставленная задача достигается тем, что в известном технологическом импульсном вакуумно-дуговом источнике плазмы, содержащем охлаждаемый кольцевой нерасходуемый анод, установленный соосно с ним и выполненный с возможностью осевого перемещения...

Номер патента: 10941

Опубликовано: 30.08.2008

Авторы: Минько Дмитрий Вацлавович, Кузнечик Олег Ольгердович, Белявин Климентий Евгеньевич, Хроленок Валерий Васильевич

МПК: H05H 1/00, H05H 1/24

Метки: ускоритель, плазмы

Текст:

...только от отношения площади выходного сечения к площади его критического сечения и не зависит в широких пределах от изменения давления перед соплом. Конфигурация внешнего электрода в данном ускорителе является постоянной, поэтому для изменения параметров потока на выходе из ускорителя необходимо заменять электрод. Техническая задача, решаемая изобретением, - расширение технологических возможностей ускорителя плазмы за счет регулирования...

Номер патента: U 4567

Опубликовано: 30.08.2008

Авторы: Селифанов Олег Владимирович, Селифанов Сергей Олегович

МПК: H05H 1/00, C23C 14/24

Метки: генератор, плазмы, технологический, вакуумно-дуговой, импульсный

Текст:

...конусной поверхности расходуемого электрода выбран из интервала 520 . Отличием предлагаемого технологического импульсного вакуумно-дугового генератора плазмы является и то, что экран выполнен с возможностью подвода к нему электрического напряжения. Отсутствие научно-технических публикаций, касающихся вышеуказанных отличительных признаков технологического импульсного вакуумно-дугового генератора плазмы,подтверждает новизну полезной модели....

Номер патента: 10597

Опубликовано: 30.04.2008

Авторы: Архипенко Валерий Иванович, Симончик Леонид Васильевич, Згировский Сергей Михайлович

МПК: H05H 1/24, H05B 7/144

Метки: получения, плазмы, давлении, разряда, тлеющего, неравновесной, устройство, атмосферном

Текст:

...узлы, системы охлаждения, подачи-отвода газа и электропитания. Новым, по мнению авторов, является то, что система электропитания дополнительно содержит источник питания пульсирующего напряжения, подключенный параллельно к стабилизированному источнику питания, причем положительные полюса источников соединены через балластные резисторы с анодом, отрицательные полюса соединены с катодом, а развязка источников осуществляется с помощью диода. Общий...

Номер патента: 10555

Опубликовано: 30.04.2008

Авторы: Селифанов Сергей Олегович, Селифанов Олег Владимирович, Точицкий Эдуард Иванович

МПК: H05H 1/24, C23C 14/24

Метки: импульсный, плазмы, источник, вакуумно-дуговой

Текст:

...в направлении какой-нибудь образующей вышеупомянутых конусно-сопряженных поверхностей. Более того, такое техническое решение обеспечивает частичное залечивание электроэрозионной выработки за счет осаждения в ней части плазмы основного импульсного вакуумно-дугового разряда. Выполнение схемы питания с возможностью обеспечения второго вспомогательного разряда между расходуемым электродом и кольцевым экраном, охватывающим боковую...

Номер патента: 9539

Опубликовано: 30.08.2007

Авторы: Агеев Виталий Алексеевич, Плескачевский Игорь Юрьевич, Вершина Алексей Константинович, Латушкина Светлана Дмитриевна

МПК: C23C 14/32

Метки: испарителя, устройство, очистки, плазмы, дугового, микрочастиц

Текст:

...повышение степени очистки плазменного потока от микрочастиц при сохранении высокой степени прозрачности для ионной компоненты.Поставленная задача решается за счет того, что в устройстве для очистки плазмы дугового испарителя от макрочастиц, содержащем жалюзную систему электродов, вь 1 полненных в виде набора коаксиальных электродов конической формы, перекрываюших апертуру испарителя, электрически соединенных между собой последовательно...

Номер патента: U 3683

Опубликовано: 30.06.2007

Авторы: Минько Дмитрий Вацлавович, Белявин Климентий Евгеньевич, Хроленок Валерий Васильевич, Кузнечик Олег Ольгердович

МПК: H05H 1/00

Метки: плазмы, ускоритель

Текст:

...сечения и не зависит в широких пределах от изменения давления перед соплом. Конфигурация внешнего электрода в данном ускорителе является постоянной, поэтому для изменения параметров потока на выходе из ускорителя необходимо заменять электрод. Техническая задача, решаемая полезной моделью, - расширение технологических возможностей ускорителя плазмы за счет регулирования скорости потока плазмы на выходе из ускорителя. Технический результат...

Номер патента: U 3600

Опубликовано: 30.06.2007

Авторы: Архипенко Валерий Иванович, Симончик Леонид Васильевич

МПК: H05H 1/24

Метки: объемной, тлеющего, плазмы, получения, разряда, неравновесной, атмосферном, устройство, давлении

Текст:

...напряжения между вторым и третьим электродами. Недостатком данного устройства является малая величина разрядного тока, малый объем плазмы (до 1 см 3). Задачей заявляемой полезной модели является увеличение более чем на порядок объема неравновесной плазмы тлеющего разряда при атмосферном давлении. Поставленная задача решается заявляемым устройством, которое содержит разрядную камеру, три электрода, два источника питания постоянного тока,...

Номер патента: 8405

Опубликовано: 30.08.2006

Авторы: Босак Николай Александрович, Чумаков Александр Никитич

МПК: G01L 23/10

Метки: плазмы, импульсного, давления, датчик

Текст:

...является создание датчика импульсного давления плазмы, обладающего высокой точностью измерения давления за счет минимизации сигнала помехи, обусловленной возникновением на мишени электрических потенциалов при ее контакте с плазмой, особенно значительных в условиях образования приповерхностной лазерной плазмы. Для решения поставленной задачи предложен датчик импульсного давления плазмы,содержащий последовательно соединенные изолирующий...

Номер патента: 4852

Опубликовано: 30.12.2002

Авторы: Сорокин Игорь Борисович, Гопанчук Владимир Васильевич

МПК: H05H 1/54, F03H 1/00

Метки: электронов, дрейфом, замкнутым, плазмы, ускоритель

Текст:

...зоны ионизации в пристеночной области соизмерима или даже меньше длины фактической ионизации поступающих в эту зону нейтральных атомов рабочего газа. Поэтому для того, чтобы расширить эту зону целесообразно разместить поверхность анода как можно ближе к магнитным экранам, которые конструктивно лимитируют возможность увеличения ширины разрядной камеры. В этом плане предлагаемое техническое решение является вариантом, когда сами магнитные экраны...

Номер патента: 4056

Опубликовано: 30.09.2001

Авторы: Пац Наталия Викторовна, Зубрина Людмила Петровна, Евец Лариса Васильевна, Гурло Александр Николаевич

МПК: A61K 35/78

Метки: плазмы, нормализующее, состав, средство, крови, детей, микроэлементный

Текст:

...жидкостях, в частности, при интоксикации свинцом и другими тяжелыми металлами применяют пищевую добавкупо одной капсуле (0,7 г) 3 раза в день в течение четырех недель. Суточная доза препарата (три капсулы в день) была рассчитана по дозис-фактору она является оптимальной для достижения положительного эффекта и при этом не оказывает никаких побочных действий. Большая доза не целесообразна, а меньшая - неэффективна. Срок четыре недели...

Номер патента: 2643

Опубликовано: 30.03.1999

Авторы: Ковалев Андрей Михайлович, Кузмицкий Антон Михайлович, Авраменко Владимир Борисович

МПК: H05H 1/00

Метки: эрозионной, плазмы, источник

Текст:

...площади отверстий для истечения плазмы 1 к минимальной площади сечения разрядного канала 2 (фиг. 2). Спектральные линии атома меди представляют материал электродов, а атома водорода - диэлектрика. Следует отметить, что график получен из спектрограмм, усредненных по 20 - 60 разрядам каждая и является не скорректированным по спектральной чувствительности фотоэмульсии (учет спектральной чувствительности приводит лишь к уменьшению масштаба...

Номер патента: 311

Опубликовано: 30.12.1994

Авторы: Зеленковский Эдуард Михайлович, Перекатов Юрий Алексеевич, Точицкий Эдуард Иванович, Селифанов Олег Владимирович

МПК: H05H 1/34, C23C 14/00

Метки: разряда, электроэрозионной, генераторе, возбуждения, плазмы, устройство, импульсном

Текст:

...с дер-50 жателем 8 изолятора 3 и прижим изолятора 3 к боковой поверхности катода 1 вблизи его рабочего торца 2 с образованием локального контакта 7 тонкопленочного токопровода 5 с ка- 55 тодом 1, при этом изолятор 3 расположен эксцентрично относительно катода 1, а ось подвижного кольца 14 подшипника 12 отклонена на угол ыот оси его неподвижного кольца 13,совпадающей с осью цилиндрического катода 1 генератора.Величина угла Ы. определяется...

Номер патента: 314

Опубликовано: 30.12.1994

Авторы: Селифанов Олег Владимирович, Перекатов Юрий Алексеевич, Зеленковский Эдуард Михайлович, Точицкий Эдуард Иванович

МПК: H05B 7/22, H05H 1/34

Метки: электроэрозионной, импульсном, генераторе, разряда, возбуждения, устройство, плазмы

Текст:

...приводУСТРОЙСТВО для возбуждения разряда вимпульсном генераторе электроэрозионной плазмы работает следующим образом. Приводят во вращение цилиндрическую втулку 10, кинематически связанную судержателем 8 изолятора 2 посредством пру жинящегоалемента 7. пружины Эироликов . д 11. Поскольку изолятор 2 установлен экс- 1центрично относительно катода 3 генерато ра.а следовательно. .и относительно оси цилиндрической втулки 10. расположенной ...