Патенты с меткой «легирования»

Лигатура для легирования платиновых сплавов

Загрузка...

Номер патента: 17834

Опубликовано: 30.12.2013

Авторы: Поко Ольга Александровна, Майонов Александр Владимирович, Азаркова Екатерина Александровна, Купченко Геннадий Владимирович, Купченко Владимир Геннадьевич

МПК: C22C 1/03, C22C 16/00

Метки: платиновых, сплавов, лигатура, легирования

Текст:

...Поставленная задача решается тем, что лигатура для легирования платиновых сплавов, содержащая цирконий, дополнительно содержит растворенный в ней кислород в количестве 25-29 ат. . Сущность заявляемого технического решения заключается в предварительном насыщении сплава кислородом, что позволяет снизить энергию активации процесса окисления,сократить время экспозиции промежуточного продукта в окислительной атмосфере и в итоге сократить...

Устройство для динамического легирования

Загрузка...

Номер патента: U 9306

Опубликовано: 30.06.2013

Автор: Ушеренко Юлия Сергеевна

МПК: B23K 20/08

Метки: устройство, динамического, легирования

Текст:

...алюминиевого сплава-12, устанавливается защитная маска из конструкционной стали с толщиной 5-20 мм. Выбор конусного металлического контейнера с поверхностью в форме крупной резьбы,с отношением внешнего диаметра резьбы к внешнему диаметру цилиндра или конуса 1,1-1,35 раза обусловлен как минимальным повреждением обрабатываемой поверхности,так и наибольшей равномерностью распределения вводимых частиц в металлической заготовке. Защитная маска из...

Устройство для интенсификации и стабилизации процесса электроискрового легирования

Загрузка...

Номер патента: U 8228

Опубликовано: 30.06.2012

Авторы: Хохряков Сергей Александрович, Чигринова Наталья Михайловна, Чигринов Вадим Витальевич

МПК: B23H 7/16

Метки: электроискрового, стабилизации, легирования, устройство, процесса, интенсификации

Текст:

...при воздействии на него ультразвукового преобразователя на фиг. 4 - изображение периодичности электроискровых импульсов в процессе паузы. Предлагаемое в данной полезной модели устройство содержит (фиг. 1) ультразвуковой генератор 1 для питания ультразвукового преобразователя 5, формирователь электроискровых разрядов 2, генератор модулирующих импульсов 3, формирующий частотновременные интервалы для акустического и электроискрового...

Устройство для легирования взрывом

Загрузка...

Номер патента: U 7080

Опубликовано: 28.02.2011

Авторы: Шмурадко Валерий Трофимович, Овчинников Владимир Ильич

МПК: C23C 14/32, B23K 20/00

Метки: устройство, легирования, взрывом

Текст:

...хордой окружности, описывающей внутреннюю поверхность регулирующей опоры, причем величина хорды составляет 1/6-1/12 от длины окружности, а элементы опоры скреплены между собой попарно. На фиг. 4 показан контейнер, который имеет в продольном сечении две полости и форму, образуемую при вращении вокруг оси симметрии линии, описываемой уравнением кубической параболы 0,073 - 0,06226,16, ограниченной по высоте плоскостью на 0,3-0,5 от расстояния...

Инструмент-электрод для электроискрового легирования

Загрузка...

Номер патента: U 5025

Опубликовано: 28.02.2009

Авторы: Константинов Валерий Михайлович, Тихонов Павел Вениаминович

МПК: B23H 11/00

Метки: электроискрового, инструмент-электрод, легирования

Текст:

...того, затруднена обработка внутренних поверхностей из-за больших габаритов применяемого оборудования. Задачей полезной модели является повышение производительности электроискрового легирования и расширение области применения за счет возможности обработки внутренних поверхностей. Поставленная задача решается за счет того, что инструмент-электрод содержит вал, на котором неподвижно закреплены две шайбы тарельчатой формы основаниями друг к...

Способ легирования хромом кристаллов селенида цинка

Загрузка...

Номер патента: 10929

Опубликовано: 30.08.2008

Авторы: Кисель Виктор Эдвардович, Левченко Владимир Иванович, Постнова Лариса Ивановна, Кулешов Николай Васильевич, Щербицкий Виктор Георгиевич, Сорокина Ирина Тиграновна

МПК: C30B 31/00, C30B 29/10, C30B 33/00...

Метки: хромом, селенида, кристаллов, легирования, цинка, способ

Текст:

...исходном нелегированном материале и введенные на стадии диффузии структурные дефекты. При этом вследствие того, что в процессе отжига в парах цинка устраняются не только введенные,но и присутствующие в исходном материале дефекты, в качестве последнего может быть использован недорогойс относительно большими оптическими потерями. Кроме того, разделение в предлагаемом способе стадий диффузионного легирования и отжига позволяет оптимизировать...

Способ определения дозы ионного легирования полупроводниковой структуры

Загрузка...

Номер патента: 10818

Опубликовано: 30.06.2008

Автор: Киселев Владимир Иосифович

МПК: H01L 21/66

Метки: способ, полупроводниковой, структуры, ионного, дозы, определения, легирования

Текст:

...см-3 и 1,041019 см-3 3, 10, т.е. все функции 11, 12, 13 описывают реакцию невырожденногона ионное облучение. Резистивный 1 и переходный 4 слои могут быть получены любым традиционным способом - эпитаксия осаждение поликристаллического полупроводника с одновременным или последующим его легированием до уровня не ниже (2-3)10 см-3 ионная имплантация. В последнем случае структура -(-) не имеет резкой границы, которая тогда условно...

Состав обмазки для лазерного легирования покрытий на основе железа

Загрузка...

Номер патента: 9861

Опубликовано: 30.10.2007

Авторы: Девойно Олег Георгиевич, Кардаполова Маргарита Анатольевна, Дьяченко Ольга Владимировна

МПК: B23K 26/18, C23C 24/00

Метки: основе, легирования, покрытий, обмазки, железа, лазерного, состав

Текст:

...ведущей к уменьшению адгезионной прочности и уменьшению износостойкости в условиях сухого трения. Уменьшение содержания борида тантала ниже 10 ведет к увеличению зерна и, следовательно, к ухудшению износостойкости. При увеличении выше 15 борида тантала приводит к выгоранию обмазки и уменьшению адгезионной прочности и величины износа. Уменьшение в обмазке количества диборида молибдена ниже 35 ведет к уменьшению износостойкости получаемого...

Многоэлектродный инструмент для электроискрового легирования

Загрузка...

Номер патента: 9036

Опубликовано: 30.04.2007

Авторы: Сухман Илья Дмитриевич, Чигринова Наталья Михайловна, Чигринов Виталий Евгеньевич, Капсаров Александр Григорьевич

МПК: B23H 7/16

Метки: многоэлектродный, легирования, инструмент, электроискрового

Текст:

...например,ультразвуковой вибратор, связанный с электрододержателем электроды расположены разновысотно относительно обрабатываемой поверхности детали посредством установки плоскости их закрепления под углом к этой поверхности, причем контактная поверхность рабочего торца каждого последующего электрода отстоит от контактной поверхности предыдущего электрода на толщину образованного им слоя, при этом амплитуда А колебаний источника механических...

Устройство лазерной наплавки и легирования

Загрузка...

Номер патента: 8327

Опубликовано: 30.08.2006

Авторы: Чивель Владимир Юрьевич, Чивель Юрий Александрович

МПК: B23K 26/00

Метки: устройство, наплавки, легирования, лазерной

Текст:

...Кроме того, при малых диаметрах центрального максимума бесселева пучка трудно обеспечить полное поглощение излучения в струе порошка, и также имеет место снижение КПД процесса. Задачей данного изобретения является создание устройства лазерной наплавки и легирования, которое обеспечивало бы уменьшение длины области фокусировки бесселева пучка и увеличение поглощения лазерного излучения в струе порошка, что обеспечивало бы повышение КПД...

Устройство лазерного легирования и наплавки

Загрузка...

Номер патента: 8326

Опубликовано: 30.08.2006

Автор: Чивель Юрий Александрович

МПК: B23K 26/00

Метки: легирования, наплавки, лазерного, устройство

Текст:

...что обуславливает большую длину области фокусировки бесселева пучка и,как следствие, снижение интенсивности излучения в области порошковой струи и снижение КПД процесса и точности изготовления изделия. Задачей данного изобретения является создание устройства лазерного легирования и наплавки, которое обеспечивало бы уменьшение длины области фокусировки бесселева пучка и обеспечивало бы повышение интенсивности излучения в области струи,...

Устройство для легирования материалов халькогенидами и галогенами

Загрузка...

Номер патента: U 2150

Опубликовано: 30.09.2005

Авторы: Бойко Андрей Андреевич, Алексеенко Александр Анатольевич, Подденежный Евгений Николаевич, Россол Александр Иванович

МПК: C03B 8/02

Метки: галогенами, халькогенидами, легирования, материалов, устройство

Текст:

...равномерно проникать через поры заготовки. Вакуумный пост, содержащий непосредственно вакуумный насос, два поглотителя, в один из которых помещен раствор щелочи, и регулирующие краны, предназначен для создания и контроля в камерах давления 10-15 Па, поддержания такого давления в процессе легирования при нагреве и охлаждении камер, нейтрализации токсичных продуктов реакции, предотвращения последствий и возможных нештатных ситуаций (выход из...

Способ внепечного легирования стали титаном

Загрузка...

Номер патента: 7055

Опубликовано: 30.06.2005

Авторы: Дюдкин Дмитрий Александрович, Бать Сергей Юрьевич, Кушнарев Николай Николаевич, Шевченко Александр Данилович, Эндерс Владимир Владимирович, Онищук Виталий Прохорович, Кисиленко Владимир Васильевич, Стеблов Анвер Борисович, Филиппов Вадим Владимирович, Паршиков Анатолий Николаевич

МПК: C21C 7/00

Метки: способ, стали, титаном, внепечного, легирования

Текст:

...в диапазоне 4,010,0 г/т-с.Приведенные выще признаки являются необходимыми и достаточными для всех случаев, на которые распространяется область изобретения.Между существенными признаками и техническим результатом - достижение стабильно высокой степени усвоения титана и стабильного получения его содержания в узких заданных пределах - существует причинно-следственная связь, которая объясняется следующим образом. При вводе титансодержащей...

Способ лазерного легирования и наплавки и устройство для его осуществления

Загрузка...

Номер патента: 6931

Опубликовано: 30.03.2005

Автор: Чивель Юрий Александрович

МПК: B23K 26/00

Метки: лазерного, легирования, устройство, способ, наплавки, осуществления

Текст:

...участок поверхности.Благодаря боковому подводу лазерного излучения к тонкой струе наносимого материала практически исключается как взаимная экранировка частиц, так И поверхности частицами,увеличивается время пребывания материала в зоне нагрева И соответственно КПД процесса Икоэффициент использования материала. Точность нанесения материала определяется диаметром пятна фокусировки на поверхности изделия И характерными размерами наносимого...

Инструмент-электрод для электроискрового легирования

Загрузка...

Номер патента: U 1494

Опубликовано: 30.09.2004

Авторы: Тихонов Павел Вениаминович, Шимин Владимир Николаевич, Константинов Валерий Михайлович

МПК: B23H 11/00

Метки: инструмент-электрод, электроискрового, легирования

Текст:

...оболочки материал, из которого выполнены элементы конструкции, сердцевины и диффузионной оболочки. Наличие в диффузионной оболочке легирующих элементов позволяет в процессе легирования насыщать ими легируемую поверхность, что приводит к повышению физикомеханических свойств поверхностного слоя. Наличие сердцевины обусловлено особенностями протекания диффузионного легирования. Для каждого последующего прироста глубины легирования...

Маска для ионного легирования арсенида галлия

Загрузка...

Номер патента: 5321

Опубликовано: 30.06.2003

Авторы: Достанко Анатолий Павлович, Телеш Евгений Владимирович

МПК: H01L 21/266

Метки: легирования, ионного, галлия, арсенида, маска

Текст:

...сквозь него и внедряются в подложку из арсенида галлия 1. В процессе ионной имплантации к слою 2 подсоединяется заземление, что обеспечивает эффективное снятие положительного заряда и, соответственно, получение резких границ легированных областей. Кроме того, наличие защитного слоя 2 позволяет осуществлять внедрение ионов при температурах до 400-500 С, что будет способствовать формированию профиля залегания примеси, близкому к Гауссову, без...