Устройство для получения покрытий в вакууме

ГОСУДАРСТВЕННОЕ ПАТЕНТНОЕ ВЕДОМСТВО РЕСПУБЛИКИ БЕЛАРУСЬ(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ(71) Заявитель Физика-технический институт АН Беларуси (ВЧ)(73) Патентообладатель Физике-технический институт АН Бсларуси (ВУ)Устройство для получения покрытий в вакууме, содержащее вакуумную камеру, в которой размещены анод и распыляемый катод,установленный внутри анода в одной плоскости с ним, отличающееся тем, что оно содержит дополнительный катод, выполненный перфорированным, при этом площадь сплошной части поверхности дополнительного катода соответствует площади распыляемого катода.Предлагаемое изобретение относится к области технологии нанесения покрытий в вакууме и может быть использовано в электронной,приборостроительной и других отраслях промышленности.Задачей изобретения является получение равнопрочности и равномерности по толщине осаждаемых покрытий за счет усовершенствования катодного узла. В предлагаемом устройстве катодный узел магнетрона оснащается дополнительным катодом. При этом дополнительный катод по форме может быть выполнен либо в виде спирали, либо решетчатой формы с радиально расположенными от периферии к центру отверстиями. Такая конс-грукция позволяет увеличить степень ионизации газа при неизменных условиях. Увеличение степени ионизации позволяет увеличить площадь дополнительного катода, вьшолнив его по предлагаемому устройству с размерами. определяемыми размерами обрабатываемых деталей.Предлагаемое устройство описывается следующим образом (фиг. 1). Напыляемая подложка 1 расположена фронтально распыляемому катоду 2, вмонтированному в стенку камеры 3. Параллельно распыляемому катоду установлен дополнительный катод 5, питаемый от источника б.Предлагаемое устройство работает следующим образом. До окончания процесса предварительной обработки осуществляется процесс распнгления в скрещенных магнитном и электрическом полях.В общем случае применение дополнительного катода позволяет ликвидировать следующие недостатки при распылении разогрев подлоЖВК ПОТОКОМ ВЫСОКОЭНЕРГТИЧНЫХ ЭЛЕКТРОНОВ,малый коэффициент использования мишени(03-035), неравномерность толщины покрытия, наличия ионной компоненты в потоке металла.Предлагаемое устройство работает следующим образом. Процесс предварительной обработки подложек и последующее напыление магнетронным методом осуществляли в ваку умной установке УРМ 379048. В качестве подложек использовали стекло 250 к 250 х 3 мм. подложки устанавливали в подложкодержатель на расстоянии 100-150 мм. Диаметр распыляемого медного катода 100 мм. Дополнительный катод выполнен трубкой в виде плоской спирали с увеличивающимся шагом. Плоскость спирали находится от плоскости подложки на расстоянии 20 мм. По окончании предварительной обработки осуществляли напыление при давлении 5103 Торр. Адгезионную прочность оценивали методом нормального отрыва припаянной медной пластины площадью 25 мм 2. гезионная прочность составляла 0,6 кг/мм в любой точке подложки, что соизмеримо с когезионной прочностью стекла. Отклонение толщины покрытия на периферии подложки по отношению к центральным участкам не зарегистрировано. Ширина зоны эрозии увеличилась на 8 мм и может изменяться в зависимости от взаимного расположения распыляемого и дополнительного катодов.Государственное патентное ведомство Республики Беларусь.