Фигурин Кирилл Борисович

Устройство для получения покрытий на частицах порошков в вакууме

Загрузка...

Номер патента: 9418

Опубликовано: 30.06.2007

Авторы: Фигурин Кирилл Борисович, Жук Андрей Евгеньевич, Григорьев Сергей Владимирович, Ковалевский Виктор Николаевич

МПК: C23C 14/00

Метки: вакууме, покрытий, частицах, порошков, получения, устройство

Текст:

...и распыляемый катод, установленный внутри анода в одной плоскости с ним, дополнительный катод, выполненный перфорированным, при этом площадь сплошной части поверхности дополнительного катода соответствует площади распыляемого катода, содержит вращающийся барабан с перемешивающими лопатками для размещения порошка и трубчатым катодом, расположенным между распыляемым и дополнительным катодами, кроме того, распыляемый катод выполнен составным...

Способ получения магнитных пленок в вакууме

Загрузка...

Номер патента: 2509

Опубликовано: 30.12.1998

Авторы: Береснев Александр Николаевич, Вершина Алексей Константинович, Фигурин Кирилл Борисович, Фигурин Борис Леонидович

МПК: C23C 14/36

Метки: вакууме, пленок, магнитных, получения, способ

Текст:

...субструктуры кристаллов вызывает появление магнитного момента (разворота) 2509 1 кристаллов в направлении легкого намагничивания. Оптимизация ориентирующего магнитного воздействия по отношению к процессу кристаллизации нейтрализует негативное влияние внутреннего трения и обеспечивает технический результат. Напыленный материал конденсируется на подложку в аморфном (некристаллическом) состоянии на требуемую толщину. По окончании процесса...

Устройство для получения покрытий в вакууме

Загрузка...

Номер патента: 1375

Опубликовано: 16.09.1996

Авторы: Яковчик Н. М., Фигурин Кирилл Борисович, Фигурин Борис Леонидович, Вершина Алексей Константинович, Ковалевский Виктор Николаевич

МПК: C23C 14/00, C23C 14/38

Метки: вакууме, покрытий, получения, устройство

Текст:

...деталей.Предлагаемое устройство описывается следующим образом (фиг. 1). Напыляемая подложка 1 расположена фронтально распыляемому катоду 2, вмонтированному в стенку камеры 3. Параллельно распыляемому катоду установлен дополнительный катод 5, питаемый от источника б.Предлагаемое устройство работает следующим образом. До окончания процесса предварительной обработки осуществляется процесс распнгления в скрещенных магнитном и...