C23C 14/35 — с использованием магнитного поля, например распыление магнетроном

Способ получения пористого порошкового материала

Загрузка...

Номер патента: 18104

Опубликовано: 30.04.2014

Авторы: Ковалевская Анна Викторовна, Фомихина Ирина Викторовна, Витязь Петр Александрович, Жук Андрей Евгеньевич, Котов Павел Алексеевич, Ковалевский Виктор Николаевич, Пилиневич Леонид Петрович, Григорьев Сергей Владимирович

МПК: C04B 35/58, C04B 35/65, B22F 3/11...

Метки: порошкового, способ, материала, получения, пористого

Текст:

...слоистых конденсатов, формование порошков с конденсатом в металлической пресс-форме в изделие и спекание его в вакууме. Присутствие в конденсатеи смеси способствует при нагреве протеканию экзотермической реакции 22. Дилатометрическими испытаниями установлена температура реакционного спекания в покрытии - 940 С. Спекание частиц с покрытием и формирование спеченного изделия протекает за счет диффузии кремния на границе покрытие - частица при...

Способ поверхностной обработки изделия в вакууме и устройство для его осуществления

Загрузка...

Номер патента: 16343

Опубликовано: 30.10.2012

Авторы: Логвина Екатерина Владимировна, Логвин Владимир Александрович

МПК: C23C 14/38, C23C 14/48, C23C 14/35...

Метки: способ, вакууме, поверхностной, обработки, изделия, осуществления, устройство

Текст:

...согласно изобретению, содержит источник высокочастотного пульсирующего тока, подключенный к изделию и содержащий регулятор частоты и регулятор тока и протяженный магнетрон, расположенный в вакуумной камере, с мишенью, выполненной с возможностью перемещения, смены, установки комбинированной мишени. Известно, что при высокочастотном изменении подаваемого постоянного тока происходит возрастание энергетического уровня материала. Кроме того, в...

Способ изготовления фрикционного диска

Загрузка...

Номер патента: 15986

Опубликовано: 30.06.2012

Авторы: Шипица Николай Александрович, Андреев Михаил Анатольевич, Дмитрович Александр Анатольевич, Саевич Леонтий Михайлович, Суворов Анатолий Николаевич

МПК: F16D 69/00, C23C 14/35

Метки: изготовления, фрикционного, способ, диска

Текст:

...металлической заготовки, что предполагает использование металла заведомо большей толщины, для обеспечения после шлифовки необходимой толщины заготовки перед проведением дальнейших технологических операций по изготовлению фрикционного диска, что приводит к перерасходу металла использование для нанесения демпфирующего слоя процесса гальваники, что требует наличия больших площадей, качественных очистных сооружений, большого расхода...

Мозаичная мишень для ионно-плазменного магнетронного нанесения многокомпонентных пленочных покрытий и способ изготовления мишени

Загрузка...

Номер патента: 13826

Опубликовано: 30.12.2010

Авторы: Копылов Андрей Владимирович, Вершина Алексей Константинович, Агеев Виталий Александрович

МПК: H01J 23/00, C23C 14/35

Метки: мишени, магнетронного, мозаичная, ионно-плазменного, нанесения, мишень, способ, изготовления, многокомпонентных, пленочных, покрытий

Текст:

...уровнем напряженности магнитного поля. Поставленная задача решается тем, что в мозаичной мишени для ионно-плазменного магнетронного нанесения многокомпонентных пленочных покрытий, содержащей плоскую матрицу, закрепленную на охлаждаемом основании, и размещенные на матрице в зоне эрозии мишени равномерно вдоль проекции силовых линий магнитного поля вставки, выполненные в виде концентрических колец или прямоугольных рамок из напыляемых...

Генератор атомарного водорода

Загрузка...

Номер патента: 13950

Опубликовано: 30.12.2010

Авторы: Труханов Алексей Валентинович, Пашкевич Михаил Викторович, Новицкий Николай Николаевич, Стогний Александр Иванович

МПК: C23C 14/35, H01J 27/00

Метки: водорода, генератор, атомарного

Текст:

...кроме области соединения с ионизационной камерой 4, и таким образом, что между дополнительной полостью 6 и кожухом 7 образуется полость (на чертеже не показано), являющаяся водной рубашкой после заполнения проточной водой. Магнитная система 8 находится внутри водной рубашки и служит для создания магнитного поля величиной 0,1 Тл в области выхода торца полости кольцеобразного сечения 5 в дополнительную камеру 6. Кольцо 9 возле закрытого торца...

Способ получения декоративного покрытия черного цвета в вакууме

Загрузка...

Номер патента: 13233

Опубликовано: 30.06.2010

Авторы: Вершина Алексей Константинович, Агеев Виталий Александрович

МПК: C23C 14/06, C23C 14/35

Метки: вакууме, получения, способ, декоративного, черного, покрытия, цвета

Текст:

...к предлагаемому техническому решению по технической сущности способ получения декоративных покрытий в вакууме, включающий плазменное(ионами материала катода электродугового источника) нанесение тонких алмазоподобных пленок с подслоями титана 11. Основным недостатком этого способа является то, что он не обеспечивает достаточно низкое интегральное отражение в видимой области спектра и не позволяет получить черную окраску покрытия, реализуя...

Катод для магнетронного нанесения многокомпонентных покрытий

Загрузка...

Номер патента: U 5501

Опубликовано: 30.08.2009

Авторы: Агеев Виталий Александрович, Копылов Андрей Владимирович, Вершина Алексей Константинович

МПК: C23C 14/35, H01J 23/02

Метки: покрытий, многокомпонентных, магнетронного, катод, нанесения

Текст:

...(коэффициентов распыления) со значением напряженности магнитного поля на поверхности катода, что достигается размещением вставок из разнородных материалов в зоне эрозии матрицы в областях с различным уровнем напряженности магнитного поля. Поставленная задача решается за счет того, что в катоде для магнетронного нанесения многокомпонентных покрытий, состоящем из выполненной в виде диска или прямоугольной пластины плоской матрицы,...

Генератор атомарного водорода

Загрузка...

Номер патента: 11620

Опубликовано: 28.02.2009

Авторы: Пашкевич Михаил Викторович, Новицкий Николай Николаевич, Стогний Александр Иванович

МПК: H01J 27/02, H01J 37/317, C23C 14/35...

Метки: водорода, генератор, атомарного

Текст:

...4 с продольной полостью кольцеобразного сечения 5 в боковой стенке ионизационной камеры 4 и дополнительная камера 6 закрытого вида, вакуумноплотно состыкованная с ионизационной камерой 4 (вакуумное уплотнение на чертеже не показано). В дополнительной камере 6 выполнено центральное отверстие (на чертеже не показано), согласованное по расположению и диаметру с наружным диаметром продольной полости кольцеобразного сечения 5. Дополнительная...

Способ нанесения пленки молибдена на полупроводниковые подложки

Загрузка...

Номер патента: 9957

Опубликовано: 30.12.2007

Авторы: Турцевич Аркадий Степанович, Портнов Лев Яковлевич, Соловьев Ярослав Александрович, Баранов Валентин Владимирович, Ануфриев Дмитрий Леонидович

МПК: C23C 14/35, C23C 14/34

Метки: нанесения, способ, пленки, полупроводниковые, молибдена, подложки

Текст:

...подложке и ухудшению стабильности ее структуры и воспроизводимости электрофизических свойств, снижению выхода годных ИСМЭ. Мощность магнетронного разряда однозначно определяет скорость нанесения пленки,а, следовательно, ее структуру и электрофизические свойства. При мощности распыления менее 0,7 кВт наблюдается увеличение растягивающих механических напряжений, что приводит к ухудшению адгезии пленок, а, следовательно, стабильности их...

Устройство для магнитно-электрического нанесения покрытия из ферромагнитного порошка

Загрузка...

Номер патента: 8825

Опубликовано: 30.12.2006

Авторы: Петришин Григорий Валентинович, Люцко Василий Александрович, Соболев Виктор Федорович, Пантелеенко Федор Иванович, Лапицкий Евгений Евгеньевич

МПК: C23C 14/35, B23H 9/00

Метки: нанесения, устройство, магнитно-электрического, ферромагнитного, покрытия, порошка

Текст:

...рабочем зазоре выходные отверстия в электродах частично изменяют свою форму и размеры из-за переноса части расплава на поверхности электродов в зоне расположения отверстий. Это обусловлено тем. ЧТО магнитное поле электромагнита не распределяет равномерно порошок по всей рабочей торцовой части электродов. локализует его на рабочих поверхностях электродов и обрабатываемой поверхности непосредственно в зоне выходных отверстий в электродах. а это...

Катодный узел для ионно-плазменного нанесения пленок

Загрузка...

Номер патента: 6143

Опубликовано: 30.06.2004

Авторы: Каморников Игорь Михайлович, Пиун Виктор Михайлович, Малащенко Алексей Терентьевич

МПК: C23C 14/34, C23C 14/35

Метки: нанесения, ионно-плазменного, пленок, катодный, узел

Текст:

...кольцеобразной пластины. В соответствии с изобретением улучшается не только охлаждение катода-мишени, но и постоянного магнита. Создание камеры охлаждения, согласно предложенному, и выполнение катода-мишени и держателя в виде пластин обеспечивает интенсивное охлаждение катода-мишени, за счет эффективного теплоотвода от катода-мишени через пластинудержатель, с одной стороны, и эффективное охлаждение магнитных наконечников и магнитопровода...

Устройство для нанесения покрытий в вакууме

Загрузка...

Номер патента: U 1246

Опубликовано: 30.03.2004

Авторы: Григорович Игорь Михайлович, Жоглик Игорь Николаевич, Синцов Сергей Иванович

МПК: C23C 14/35

Метки: вакууме, устройство, покрытий, нанесения

Текст:

...полезной модели является создание устройства для нанесения покрытий в вакууме, позволяющее осуществлять длительные непрерывные (20-40 ч) режимы нанесения покрытий со скоростью осаждения более 1 мкм/ч. Поставленная задача решается следующим образом в устройстве для нанесения покрытий в вакууме, содержащем корпус, соленоид, размещенный на корпусе, расходуемый металлический катод, установленный в корпусе эксцентрично относительно оси...

Линия для нанесения покрытий на плоские стекла

Загрузка...

Номер патента: 2921

Опубликовано: 30.09.1999

Авторы: Витязь Петр Александрович, Борисевич Анатолий Михайлович, Терехов Владимир Иванович

МПК: C23C 14/35, C03C 17/00

Метки: линия, плоские, нанесения, покрытий, стекла

Текст:

...раме 62, имеющей свободу вертикального возвратно-поступательного движения с помощью четырех опорных пневматических диафрагм 63, закрепленных на корпусе конвейера 64 и имеющих кинематическую связь с рамой 62 устройство выгрузки 65 (фиг. 1, 2) оснащено всеми узлами устройства загрузки 1. Отличительной особенностью устройства выгрузки 65 является то, что рабочий ход поворотной платформы 5 в устройстве выгрузки 1 является холостым ходом....