Патенты с меткой «пучком»

Управление пучком энергии, обработка сигнала, усиление и компьютерная логическая схема с использованием эффекта интерференции

Загрузка...

Номер патента: 4353

Опубликовано: 30.03.2002

Авторы: ХЕЙТ, Джон Н.

МПК: G06E 1/04, G06G 7/00

Метки: усиление, компьютерная, схема, управление, эффекта, пучком, использованием, энергии, сигнала, обработка, логическая, интерференции

Текст:

...будет ли происходить конструктивная или деструктивная интерференция в положении, когда она наложена на другую несущую волну. Термины инвертированная и неинвертированная относятся к огибающей модулированной формы волны, а не к фазе несущей волны. Когда говорят, что амплитудно-модулированная несущая волна инвертирована, это означает,что она неактивирована в тот период, когда неинвертированная несущая волна активирована, что и...

Частотно-уплотненная логическая схема, усиление и управление пучком энергии с использованием эффекта интерференции

Загрузка...

Номер патента: 4351

Опубликовано: 30.03.2002

Авторы: ХЕЙТ, Джон Н.

МПК: G06G 7/00, G06E 1/04

Метки: энергии, управление, использованием, усиление, пучком, частотно-уплотненная, схема, эффекта, логическая, интерференции

Текст:

...и сопровождающих его фотографиях заявитель отметил ряд черт его осуществления, выходящих далеко за рамки рассматриваемой темы и, очевидно, не раскрытых или не понятых до настоящего времени ни одним научным изданием. Конкретно, несмотря на тот факт, что множество интерференционных полос были созданы эталоном одновременно, выделенные изображения не были искажены в силу наличия интерференции между волнами других длин. Это указывает на то, что...

Плазменный источник электронов с пучком большого сечения

Загрузка...

Номер патента: U 469

Опубликовано: 30.03.2002

Авторы: Залесский Виталий Геннадьевич, Голубев Юрий Петрович, Груздев Владимир Алексеевич

МПК: H01J 3/04

Метки: плазменный, источник, электронов, сечения, пучком, большого

Текст:

...состоящем из газоразрядной камеры, которая включает в себя два катода, анод и постоянные магниты,и из формирователя-расширителя с эмиттерным сеточным электродом, в отличие от прототипа эмиттерный электрод выполнен в виде двух эквипотенциальных сеток с расстоянием между ними, равным 0,8-2 размера ячейки сетки, т.е. в источнике применена новая двухсеточная схема стабилизации эмитирующей плазменной поверхности. На фигуре представлен заявляемый...

Установка для лазерной обработки кольцевым пучком

Загрузка...

Номер патента: U 235

Опубликовано: 30.03.2001

Авторы: Шалупаев Сергей Викентьевич, Каморников Игорь Михайлович, Максименко Александр Васильевич, Никитюк Юрий Валерьевич, Мышковец Виктор Николаевич

МПК: B23K 26/00

Метки: обработки, установка, пучком, кольцевым, лазерной

Текст:

...в зависимости от его вида, требуемого размера зоны обработки, что расширяет ее технологические возможности и область применения. Вторым важным преимуществом заявляемой установки является ее более высокая производительность в случаях многократной обработки, например при пробивке множества отверстий в изделиях. Последнее преимущество обеспечивается двухлучевой обработкой. Расширение технологических возможностей при двухлучевой обработке...