Патенты с меткой «пучком»

Управление пучком энергии, обработка сигнала, усиление и компьютерная логическая схема с использованием эффекта интерференции

Загрузка...

Номер патента: 4353

Опубликовано: 30.03.2002

Авторы: ХЕЙТ, Джон Н.

МПК: G06E 1/04, G06G 7/00

Метки: энергии, усиление, интерференции, обработка, пучком, схема, эффекта, управление, логическая, компьютерная, сигнала, использованием

Текст:

...будет ли происходить конструктивная или деструктивная интерференция в положении, когда она наложена на другую несущую волну. Термины инвертированная и неинвертированная относятся к огибающей модулированной формы волны, а не к фазе несущей волны. Когда говорят, что амплитудно-модулированная несущая волна инвертирована, это означает,что она неактивирована в тот период, когда неинвертированная несущая волна активирована, что и...

Частотно-уплотненная логическая схема, усиление и управление пучком энергии с использованием эффекта интерференции

Загрузка...

Номер патента: 4351

Опубликовано: 30.03.2002

Авторы: ХЕЙТ, Джон Н.

МПК: G06E 1/04, G06G 7/00

Метки: энергии, интерференции, эффекта, логическая, схема, пучком, усиление, управление, частотно-уплотненная, использованием

Текст:

...и сопровождающих его фотографиях заявитель отметил ряд черт его осуществления, выходящих далеко за рамки рассматриваемой темы и, очевидно, не раскрытых или не понятых до настоящего времени ни одним научным изданием. Конкретно, несмотря на тот факт, что множество интерференционных полос были созданы эталоном одновременно, выделенные изображения не были искажены в силу наличия интерференции между волнами других длин. Это указывает на то, что...

Плазменный источник электронов с пучком большого сечения

Загрузка...

Номер патента: U 469

Опубликовано: 30.03.2002

Авторы: Залесский Виталий Геннадьевич, Груздев Владимир Алексеевич, Голубев Юрий Петрович

МПК: H01J 3/04

Метки: большого, источник, электронов, плазменный, сечения, пучком

Текст:

...состоящем из газоразрядной камеры, которая включает в себя два катода, анод и постоянные магниты,и из формирователя-расширителя с эмиттерным сеточным электродом, в отличие от прототипа эмиттерный электрод выполнен в виде двух эквипотенциальных сеток с расстоянием между ними, равным 0,8-2 размера ячейки сетки, т.е. в источнике применена новая двухсеточная схема стабилизации эмитирующей плазменной поверхности. На фигуре представлен заявляемый...

Установка для лазерной обработки кольцевым пучком

Загрузка...

Номер патента: U 235

Опубликовано: 30.03.2001

Авторы: Мышковец Виктор Николаевич, Максименко Александр Васильевич, Каморников Игорь Михайлович, Шалупаев Сергей Викентьевич, Никитюк Юрий Валерьевич

МПК: B23K 26/00

Метки: установка, пучком, кольцевым, лазерной, обработки

Текст:

...в зависимости от его вида, требуемого размера зоны обработки, что расширяет ее технологические возможности и область применения. Вторым важным преимуществом заявляемой установки является ее более высокая производительность в случаях многократной обработки, например при пробивке множества отверстий в изделиях. Последнее преимущество обеспечивается двухлучевой обработкой. Расширение технологических возможностей при двухлучевой обработке...