Патенты с меткой «магнетронного»

Мозаичная мишень для ионно-плазменного магнетронного нанесения многокомпонентных пленочных покрытий и способ изготовления мишени

Загрузка...

Номер патента: 13826

Опубликовано: 30.12.2010

Авторы: Вершина Алексей Константинович, Копылов Андрей Владимирович, Агеев Виталий Александрович

МПК: H01J 23/00, C23C 14/35

Метки: мозаичная, изготовления, мишень, нанесения, пленочных, многокомпонентных, мишени, магнетронного, способ, покрытий, ионно-плазменного

Текст:

...уровнем напряженности магнитного поля. Поставленная задача решается тем, что в мозаичной мишени для ионно-плазменного магнетронного нанесения многокомпонентных пленочных покрытий, содержащей плоскую матрицу, закрепленную на охлаждаемом основании, и размещенные на матрице в зоне эрозии мишени равномерно вдоль проекции силовых линий магнитного поля вставки, выполненные в виде концентрических колец или прямоугольных рамок из напыляемых...

Катод для магнетронного нанесения многокомпонентных покрытий

Загрузка...

Номер патента: U 5501

Опубликовано: 30.08.2009

Авторы: Копылов Андрей Владимирович, Вершина Алексей Константинович, Агеев Виталий Александрович

МПК: H01J 23/02, C23C 14/35

Метки: нанесения, покрытий, магнетронного, многокомпонентных, катод

Текст:

...(коэффициентов распыления) со значением напряженности магнитного поля на поверхности катода, что достигается размещением вставок из разнородных материалов в зоне эрозии матрицы в областях с различным уровнем напряженности магнитного поля. Поставленная задача решается за счет того, что в катоде для магнетронного нанесения многокомпонентных покрытий, состоящем из выполненной в виде диска или прямоугольной пластины плоской матрицы,...

Установка для нанесения многослойных тонкопленочных покрытий методом магнетронного распыления

Загрузка...

Номер патента: U 918

Опубликовано: 30.06.2003

Авторы: Достанко Анатолий Павлович, Голосов Дмитрий Анатольевич, Завадский Сергей Михайлович, Свадковский Игорь Витальевич

МПК: C23C 14/34

Метки: установка, магнетронного, нанесения, распыления, многослойных, методом, покрытий, тонкопленочных

Текст:

...система расположена с внутренней стороны фланца, а ионный источник - с внешней стороны фланца. Это позволяет обеспечить нанесение тонкопленочных структур с заданной однородностью свойств по поверхности подложки при ограниченных габаритах фланцев Ионный источник включается перед нанесением очередного слоя и обеспечивает стимуляцию разряда магнетрона, что позволяет добиться одновременного функционирования магнетронной...