Способ регистрации двухэкспозиционных интерферограмм на фототермопластических материалах (варианты)

Номер патента: 7499

Опубликовано: 30.12.2005

Авторы: Окушко Владимир Анатольевич, Дашкевич Владимир Иванович

Скачать PDF файл.

Текст

Смотреть все

(51)03 1/18 НАЦИОНАЛЬНЫЙ ЦЕНТР ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ СПОСОБ РЕГИСТРАЦИИ ДВУХЭКСПОЗИЦИОННЫХ ИНТЕРФЕРОГРАММ НА ФОТОТЕРМОПЛАСТИЧЕСКИХ МАТЕРИАЛАХ (ВАРИАНТЫ)(71) Заявитель Государственное научное учреждение Институт электроники Национальной академии наук Беларуси(72) Авторы Окушко Владимир Анатольевич Дашкевич Владимир Иванович(73) Патентообладатель Государственное научное учреждение Институт электроники Национальной академии наук Беларуси(56) Жовтанецкий О.И. и др. Использование паразитной памяти термопластиков в голографической интерферометрии // Автометрия. - 1983. -1. - С. 99-101.4311 1, 2002.2024821 1, 1994.1636686 1, 1991.1762295 1, 1992.1770735 1, 1992.724203 1, 1996.3600096, 1971.(57) 1. Способ регистрации двухэкспозиционных интерферограмм на фототермопластических материалах, заключающийся в формировании опорного и объектного пучков,последовательной записи двух голограмм на пространственных частотах, определяемых максимальным откликом фототермопластического материала, и включающий при записи каждой голограммы зарядку фототермопластического материала, экспонирование и тепловое проявление, причем перед второй зарядкой и экспонированием первую голограмму термически стирают, и восстановлении изображения интерферограммы, отличающийся тем, что максимальную пространственную частоту объектного пучкавыбирают исходя из условия, где- резонансная частота, определяемая из передаточной характеристики фототермопластического материала. 7499 1 2005.12.30 2. Способ регистрации двухэкспозиционных интерферограмм на фототермопластических материалах, заключающийся в формировании опорного и объектного пучков, последовательной записи двух голограмм на пространственных частотах, определяемых максимальным откликом фототермопластического материала, и включающий при записи каждой голограммы зарядку фототермопластического материала, экспонирование и тепловое проявление, причем перед второй зарядкой и экспонированием первую голограмму термически стирают, и восстановлении изображения интерферограммы, отличающийся тем, что формируют второй опорный пучок, для которого выполнено условие 12 и 12, где 1,2 и 1,2 - максимальная и минимальная пространственные частоты объектного пучка соответственно при первом и втором опорном пучке, а восстановление изображения интерферограммы осуществляют двумя опорными пучками. Изобретение относится к измерительной технике, в частности к технике регистрации двухэкспозиционных интерферограмм на фототермопластических (ФТП) материалах. Известен способ регистрации двухэкспозиционных интерферограмм на ФТП материалах 1 путем последовательной записи каждой голограммы, одновременное экспонирование, заряд и нагрев ФТП материала, причем перед вторым экспонированием и зарядкой первую голограмму стирают за счет поддержания постоянной температуры деформируемого слоя ФТП материала выше температуры размягчения. Известный способ не обеспечивает регистрацию двухэкспозиционных интерферограмм с высоким контрастом интерференционных полос. Наиболее близким по технической сущности является способ регистрации двухэкспозиционных интерферограмм на ФТП материалах 2, заключающийся в формировании опорного и объектного пучков, последовательной записи двух голограмм на пространственных частотах, определяемых максимальным откликом ФТП материала, и включающий при записи каждой голограммы зарядку ФТП материала, экспонирование и тепловое проявление, причем перед второй зарядкой и экспонированием первую голограмму термически стирают, восстановление изображения интерферограммы опорным пучком либо другим источником когерентного излучения. Двухэкспозиционные интерферограммы, записанные известным способом, характеризуются низким контрастом интерференционных полос. Технической задачей изобретения является повышение контраста полос двухэкспозиционных интерферограмм за счет повышения дифракционной эффективности первой голограммы в области высоких и низких пространственных частот. Поставленная техническая задача решается тем, что по известному способу регистрации двухэкспозиционных интерферограмм на ФТП материалах, заключающемуся в формировании опорного и объектного пучков, последовательной записи двух голограмм на пространственных частотах, определяемых максимальным откликом ФТП материала, и включающему при записи каждой голограммы зарядку ФТП материала, экспонирование и тепловое проявление, причем перед второй зарядкой и экспонированием первую голограмму термически стирают, и восстановлении изображения интерферограммы, максимальная пространственная частота объектного пучкаудовлетворяет условию,где - резонансная частота, определяемая из передаточной характеристики ФТП материала. Поставленная техническая задача решается тем, что по известному способу регистрации двухэкспозиционных интерферограмм на ФТП материалах, заключающемуся в формировании опорного и объектного пучков, последовательной записи двух голограмм на пространственных частотах, определяемых максимальным откликом ФТП материала, и включающему при записи каждой голограммы зарядку ФТП материала, экспонирование и тепловое проявление, причем перед второй зарядкойи экспонированием первую голо 2 7499 1 2005.12.30 грамму термически стирают, и восстановлении изображения интерферограммы, формируют второй опорный пучок, для которого выполнено условие 12 и 12,где 1,2 и 1,2 - максимальная и минимальная пространственные частоты объектного пучка соответственно при первом и втором опорном пучке, а восстановление изображения интерферограммы осуществляют двумя опорными пучками. Дифракционная эффективность восстановленной за счет остаточной памяти первой голограммы определяется пространственной частотой записи (обратная зависимость) и величиной дифракционной эффективности стираемой голограммы (прямая зависимость). Способ характеризуется последовательностью операций. Вариант 1. Формируют опорный и объектный пучки, для которых при интерференции выполнено условиеосуществляют зарядку ФТП материала и записывают голограмму исходного состояния объекта с термическим проявлением ФТП материала термически стирают голограмму путем нагревания ФТП материала до температуры стирания аналогично записывают голограмму измененного состояния объекта, в результате после термического проявления второй голограммы за счет остаточной памяти восстанавливается и первая голограмма восстанавливают и интерферограмму опорным пучком либо другим источником когерентного излучения. Вариант 2. Формируют два опорных и объектный пучки, при этом для каждого опорного пучка выполняют два условия первое - углы схождения с объектным пучком соответствуют максимальному отклику ФТП материала, и второе - 12 и 12 осуществляют зарядку ФТП материала и записывают голограмму исходного состояния объекта с термическим проявлением ФТП материала термически стирают голограмму путем нагревания ФТП материала до температуры стирания аналогично записывают голограмму измененного состояния объекта, в результате после термического проявления второй голограммы за счет остаточной памяти восстанавливается и первая голограмма восстанавливают интерферограмму двумя опорными пучками. Сущность устройства для реализации способа поясняется фигурой, где 1 - лазер 2 схема голографирования 3 - объектный канал 4 - объект 5 - опорный канал 6 - система ФТП регистрации. Устройство содержит лазер 1, оптически связанный со схемой голографирования 2,включающий в себя объектный канал 3, оптически связанный с объектом 4, и опорный канал 5, оптически связанный с системой ФТП регистрации 6. Способ реализуется следующим образом. Излучение лазера 1 направляется в схему голографирования 2, где формируется объектный канал 3 и опорный канал 5 (формируют предметный и опорный пучки). Осуществляют зарядку ФТП материала, расположенного в ФТП системе регистрации 6. Освещают объект 4 объектным пучком, а ФТП материал опорным пучком. Записывают голограмму исходного состояния объекта с термическим проявлением ФТП материала. Термически стирают голограмму путем нагревания ФТП материала до температуры стирания. Аналогично записывают голограмму измененного состояния объекта. В результате после термического проявления второй голограммы за счет остаточной памяти восстанавливается и первая голограмма в виде геометрического рельефа на поверхности ФТП материала. В варианте 1 угол схождения между объектным и опорным пучками выбирают с условием, а восстанавливают интерферограмму опорным пучком либо другим источником когерентного излучения. В варианте 2 формируют два опорных пучка, при этом для каждого опорного пучка выполняют два условия первое - углы схождения с объектным пучком соответствуют максимальному отклику ФТП материала, и второе - 12 и 12,восстанавливают интерферограмму двумя опорными пучками. В обоих вариантах эти углы определяют из передаточной характеристики используемого ФТП материала. 3 7499 1 2005.12.30 Использовался непрерывный лазер с длиной волны излучения 0,632 мкм. Система ФТП регистрации включала ФТП камеру, имеющую узел крепления и протяжки ленточного ФТП материала, узел зарядки и теплового проявления и электронный блок управления режимами записи. В качестве объекта использовали наклеечник для крепления и обработки оптических деталей при его термическом нагружении. По сравнению с известным заявляемый способ обеспечивает регистрацию двухэкспозиционных интерферограмм с высоким контрастом полос по всему изображению голограммы. Источники информации 1. Аникин В.И. и др. Двухэкспозиционная интерферометрия и спеклфотография на фототермопластических регистрирующих средах // Свойства светочувствительных материалов и их применение в голографии. - Л. 1987. - С. 100-105. 2. Жовтанецкий О.И. и др. использование паразитной памяти термопластиков в голографической интерферометрии // Автометрия.- 1983.-1. - С. 99-101 (прототип). Национальный центр интеллектуальной собственности. 220034, г. Минск, ул. Козлова, 20.

МПК / Метки

МПК: G03H 1/18

Метки: материалах, регистрации, способ, фототермопластических, двухэкспозиционных, варианты, интерферограмм

Код ссылки

<a href="http://bypatents.com/4-7499-sposob-registracii-dvuhekspozicionnyh-interferogramm-na-fototermoplasticheskih-materialah-varianty.html" rel="bookmark" title="База патентов Беларуси">Способ регистрации двухэкспозиционных интерферограмм на фототермопластических материалах (варианты)</a>

Похожие патенты